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「推仔說新聞」ASML計劃研發新一代EUV光刻機 性能提升70%

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光刻機對於半導體生產來說可謂是至關重要的設備，在以前光刻機甚至是佳能和尼康的重要產品之一，對你沒看錯，就是你知道的那個佳能和尼康。

只不過隨著科技的進步、技術的革新，就目前而言，整個光刻機領域的高端產品全部被ASML壟斷。

而大家常說的EUV也就極紫外光刻機只有ASML獨一份。

這就更加彰顯出ASML在整個光刻機業內的地位了。

現在每台EUV光刻售價超過一億美元，而且一直處於供不應求的態勢。

既然已經是業內的頭把交椅了，ASML並沒有停下自己的腳步，他們其實很早之前就開始了布局，早在16年ASML就花了20億美元收購了蔡司公司25%的股份，並追加投資雙方合作開發新的透鏡。

接下來在去年10月份就宣布與IMEC比利時微電子中心合作研發新一代EUV光刻機，目標是將NA從0.33提升到0.5以上。

這裡跟大家說一下，關於光刻機的解析度

K1在這其中可以看做常數項，λ為光波長，也就是目前經常進入大家眼帘的極紫外光所影響的就是這項。

而NA就是數值孔徑。

就目前而言，ASML就是想在這個NA上面做文章。

日前韓媒報導稱，ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機，與現有的光刻機相比，二代EUV光刻機最大的變化就是High NA（高數值孔徑）透鏡，通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮解析度、套准精度兩大光刻機核心指標提升70%。

機器將於2025年量產。

在推仔看來，ASML的下一代產品更新也算是可以預見的，畢竟大家都清楚，按照三星和台積電已經公布的路線圖來看，等時間真到了2025年，這兩家的工藝怕是早就推進到3nm左右，如果光刻這邊扯了後腿，相比三星肯定會有藉口說自己的「1nm」計劃失敗。

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