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為何中國能生產5nm的刻蝕機，卻只能生產90nm的光刻機？

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由於晶片在這一年以來，引起了網友們空前的關注，所以有關於晶片的設備也是受到了大家的關注，其中光刻機是晶片製造中必不可少的，吸引的目光自然不計其數。

眾所周知，ASML是光刻機的壟斷企業，最高端最先進的光刻機都是ASML生產的，像台積電、三星、英特爾等大廠都離不開ASML。

去年中芯國際也從ASML買到了最新的光刻機。

另外在晶片製造過程中，還有一種設備和光刻機類似，叫做刻蝕機，所以很多人對於光刻機，刻蝕機都是傻傻分不清楚。

再加上中國目前在刻蝕機上的技術很先進，甚至在去年國內的企業中微半導體設備就量產了5nm的刻蝕機，目前已交給台積電驗證了，所以很多人總是以為中國在光刻機上達到了5nm的水準。

事實上目前中國能生產的光刻機的技術是90nm，還在攻關65nm，45nm等技術，離ASML的7nm量產技術，差得還太遠，別說幾十年，十年八年的差距還是有的。

ASML光刻機

其實這兩種設備的功能是完全不一樣的，光刻機的意思是用光來刻錄，即用光線在矽晶圓上刻畫出電路圖來。

而刻蝕機則相反，用光來把不需要的部分去掉，只保留劃了電路圖的部分。

那麼為何國內能生產5nm的刻蝕機，卻只能生產90nm的刻蝕機呢？

最主要的原因是光刻機技術更複雜，設備也更複雜，很多的零部件是美日韓壟斷的，比如光源，國產的就完全技術不過關，跟不上。

甚至不僅是中國跟不上，之前和ASML一樣輝煌的尼康、cannon都落後了，跟不上ASML的節奏了。

國產光刻機

而刻蝕機相對技術簡單一些，所以目前國內並不比世界領先水平落後，所以才能夠擁有一席這地，目前國內的企業中微半導體和泛林、應用材料、東京電子、日立並稱為全球五大刻蝕設備巨頭。

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