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三星宣布5nm EUV開發完成 產線2020年開工

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來源：ZOL

前不久，有消息曝出台積電正在積極布局5nm EUV工藝，並將像AMSL採購更多光刻機。

而近日，三星也宣布其正在建設5nm工藝生產線，預計2019年下半年完成，並在明年開始投入使用。

同時，三星宣布已經成功完成5nm EUV開發，這說明三星已經具備5nm製程工藝的量產能力。

三星強調，相較於7nm工藝，5nm FinFET工藝技術可以讓晶片功耗降低20%，性能提高10%，能夠擁有更多創新的標準單元架構。

此外，5nm另一個主要優點在於可以讓7nm客戶過渡5nm時降低遷移成本，縮短產品開發周期。

此前，台積電宣布第一代5nm是他們第二次引入EUV技術，多達14層；而第二代7nm EUV只有4層規模。

隨著格芯（GF）、聯電退出，目前能夠做7nm以及更先進工藝晶圓的廠商就只剩下了三星、台積電和英特爾，目前雖然三星、台積電都已經公布7nm、5nm製程進展，但從實際參數規格上來看，二者與英特爾10nm製程技術的差異不大，如果將製程推進到統一級別的話，比如英特爾7nm對應台積電、三星7nm，那麼在技術層面上英特爾依然處於領先地位。

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