ASML與台積電同時進軍1nm工藝,先進位程正被一步步突破
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現在在晶片應用領域,人們已經進入7納米時代,隨著今年台積電,三星在5納米工藝上的突破,剩下的就是3納米、2納米以及1納米工藝了,這一人類半導體產業進軍的階梯,正在被人類一步步的突破。
台積電1納米工藝已經提上日程
現在的台積電剛剛實現了對5nm工藝晶片的量產,而按照台積電的計劃,近兩年要實現對3納米工藝的量產,至於2納米,現在宣傳的時間則是2024年,雖然存在一定的變數,但是卻也說明台積電在先進位程工藝方面,一直在保持不斷的創新。
至於後面,那就要說一下1納米工藝了,台積電在近日的股東大會上已經宣布了公司已經在1納米工藝方面,開展了相關研究,相信早2024年實現2納米工藝量產之後,也會取得較大的進步。
ASML是台積電突破1納米工藝的關鍵推手
台積電在先進位程工藝方面所獲得的成就有目共睹,但是如果沒有ASML的助推,是很難獲得現如今的成就的,雖然ASML的發展也是依靠台積電的林本堅推動起來的,但是,現在的高端光刻機市場ASML是絕對的NO.1,現在台積電要想在3納米、2納米,甚至是1納米上獲得突破,以現在的局面來看的話,沒有ASML是絕對做不到的!
所以說,台積電在朝向1納米工藝發起衝鋒,其實也是ASML在朝向1納米領域進軍。
而ASML在實現第一代EUV光刻機量產之後,已經開始了在第二代產品上的研發,據悉,按照ASML的計劃,第二代EUV光刻機將在2020年實現出貨,相比於第一代EUV光刻機,新一代光刻機的性能提升70%。
這讓晶片製程工藝進入2nm,甚至是1nm都成為了可能。
台積電要想實現1納米工藝的量產,缺少了ASML的1納米工藝光刻機,那台積電就不可能實現。
不過,以現在在全球製程工藝方面的研製進度來說,ASML離開了台積電的巨大需求,基本上也就處於「英雄無用武之地」了。
所以,這兩家企業的攜手並進才是全球半導體產業快速發展的關鍵。
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