三星和英特爾這樣的大公司都要向它低頭，實力操控半導體行業

當今社會，三星、英特爾、AMD等半導體巨頭林立，競爭愈演愈烈，然而這家來自荷蘭的半導體企業卻憑藉其絕對的技術優勢掌握這各大巨頭的命脈！他就是脫胎於荷蘭飛利浦，占據了當下光科技市場份額90%，且擁有全球唯一高端EUV（極紫外光刻）的ASML（阿斯麥）。

自從集成電路被發明以來，電子設備越來越小，晶片的製造難度也越來越高，為了完成這道複雜的工藝流程，集成電路製造中最精密複雜、難度最高、價格最昂貴的設備光刻機被人們發明出來！同時因為光刻工藝直接影響著半導體線路的線寬，進而影響著晶片的性能與消耗，因此光刻機成為半導體行業最為關鍵的設備！

早在1971年，荷蘭飛利浦公司就已經成立了光刻設備研發小組，並在兩年後推出了性能有所提升的新型光刻設備，但是因為造價高昂且仍存在技術問題，飛利浦不得不關停了技術小組，此時，半導體設備代理商ASML請求與飛利浦合作，終於在軟磨硬泡下於1984年共同成立ASML。

當時的國際市場上，ASML並不具備技術優勢，而且尼康、佳能、蔡司等巨頭，都擁有自己的光刻設備。

1986年，ASML推出首台步進式光刻機，將半導體工藝製成向上提升了一個台階，並和卡爾蔡司建立密切合作關係。

1995年，ASML上市，在得到了大量資金支持後，於2000年收購Silicon Vallery Group，獲得了投影掩罩瞄準技術、掃描技術，極大地提升了公司產品的質量，並在美國擁有了研發生產基地。

同年，ASML推出了TWINSCAN雙工作檯光刻機，使得光刻機能在一個工作檯進行曝光晶圓片，同時在另外一個工作檯進行預對準工作，並在第一時間得到結果反饋，生產效率提高大約35%，精度提高10%以上，一舉奠定了光科技領域的霸主地位！2007年，ASML配合台積電林本堅提出的技術方向，推出了能顯著提升蝕刻精度的193nm光源的浸沒式系統，稱為高端光刻的主流技術方案。

至此，尼康與佳能敗下陣來，ASML占據了DUV市場70%的份額。

按照所使用的不同光源ASML的光刻機可以分為DUV和EUV，DUV是Deep Ultra Volet，即深紫外光，EUV是Extreme Ultra Violet，即極紫外光。

前者的極限工藝節點是28nm，要想開發更先進的製程，就只能使用EUV光刻機了。

2010年ASML推出首台EUV設備TWINSCAN NXE:3100系統，與之前的光刻機相比，能夠使用更短波長的光，使得客戶可以製造更小規格的產品，在同一塊晶片上集成更多的電晶體。

2013年ASML TWINSCAN NXE:3300BEUV光刻機研發成功，使用的光源是22nm，該半導體設備只有ASML能供應，這在全球產業鏈中屬於極度特別的狀態。

而一台EUV光刻機的造價高達1億歐元，價格相當於美國四代戰鬥機F35，儘管如此，但對於英特爾、三星等半導體巨頭來說，EUV仍是絕對不可或缺的核心設備。

而且ASML的股權結構很有意思，它規定凡是投資ASML的企業都將獲得優先購買權，這讓英特爾、三星、台積電紛紛掏出腰包。

2012年，三星投資5.03億歐元、台積電投資8.38億歐元、英特爾投資33億歐元，分別買入了ASML公司3%、5%和15%的股份。

作為上游產業，ASML收費再為你研發產品，有技術就是可以為所欲為。

不過你也別理解為ASML太黑，在持有股份後，台積電於2015年出售ASML全部股權，獲利6.95億美元。

三星於一年後出售全部ASML股份，同樣獲利頗豐，而英特爾也將自己的股份減少到7.6%，三巨頭都從中得到了利益。

雖然此後這部分利益將用於購買售價高達1億歐元的EUV，同年ASML以11億美元收購德國光學巨頭蔡司24.9%的股份，並承諾8.4億美元的研發投入，聯手研發數值控凈高於0.5的盡頭。

第二代EUV微影預計要到2024年後量產，屆時計劃實現約8nm的線寬，每小時處理185片晶圓，迭對誤差容許度小於2nm。

ASML此次大手筆投資蔡司進行共同研發，顯示ASML對於發展下一代EUV 微影系統EUV設備的必勝決心。

2016年下半年後，ASML公司14nm與10nm光刻機陸續進入量產，尤其是7nm以下製程的關鍵設備，成為一線半導體企業資本支出的重點。

根據調研機構Anandtech所匯集的各家路線圖，台積電是最快到達7nm工藝製成的廠商，三星預計於2019年導入EUV，出於成本考慮，英特爾將於2021年開始使用7nm設備。

2015年時，ASML的市值為375億歐元，如今他身價翻倍，一度超過700億歐元。

自2015年末至2017年末各季度滾動凈利潤數據可見，ASML市盈率持續穩定在30倍以上，最高時曾達到37倍，此前曾有說法，受《瓦森納協定》的影響，ASML不會向中國出售光刻設備，該協定簽訂於1996年，是一種建立在自願基礎上的集團性出口控制機製備，然而在實際情況中，這種自願常被已開發國家所控制，比如美國曾阻止傑克向中國出售反隱形戰機雷達，不過這個協議對中國也不是完全禁售，這是禁售最新的幾代設備。

瓦森納協議每過幾年都會更新禁售列表，比如2010年90nm以下的設備都是不允許銷售的，到2015年就改成65nm以下的了。

2018年5月，長江存儲花費7200萬美元喜提ASML光刻機一台。

而其他中國企業，比如中芯國際在遭遇美國制裁之後，向ASML下單了一台價值高達1.2億美元的EUV光刻機，這台機器預計將於2019年初交貨。

普通的公司被行業影響，偉大的公司影響行業，英特爾再牛，三星再橫也全都得看ASML的臉色行事。

最後還是那句話，希望中國的半導體行業能早日追上大佬。

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