ASML：光刻巨頭的崛起之路

ASML光刻機 其大小堪比一台大卡車

日前，全球光刻巨頭ASML（阿斯麥）正式澄清，EUV要進口到中國大陸完全沒有任何問題！2019年，中國大陸或將迎來首台EUV光刻機的消息震驚半導體行業。

網上關於我國為什麼需要ASML已分析的足夠多，今天，我們就來聊一聊ASML的發展史，看一下先進的理念是如何幫助ASML成為半導體行業的光刻巨頭。

出自飛利浦，窮困逼迫ASML走向開放式創新；

1984年，一群年輕人懷抱顛覆產業的夢想，從飛利浦獨立出來。

當時的飛利浦正在執行大規模的裁員計劃，經濟每況愈下。

因此，這群年輕人沒能從飛利浦拿到融資，只能獨自熬過開發周期。

沒有辦法，他們只能向政府、向一些客戶遊說，告訴他們，我們願意與你們合作，願意跟你們分享我們的利潤，而且你們可以用很低的價格就能拿到我們的機器。

讓我們來共同研發吧。

這種整合現有資源，並最大利用外部資源的商業新形式最終成為如今現有企業的新理念：開放式創新。

補充：上世紀八九十年代正值高度垂直整合的巔峰，那時的飛利浦、索尼是其中的代表性企業，不管一個新產品需要什麼組件，我都要自己去完成。

今天的三星手機就是高度垂直整合的代表，處理器、螢幕、內存、電池等都是自家的。

而如今的蘋果則是開放式的代表，它只作為一家設計公司而存在，至於製造全部交給其它企業。

台積電與三星

十三年前的上一場技術革命，奠定了ASML今日的地位；

半導體業上一個革命性巨變，發生在十三年前。

現任台積電研發副總、世界微影技術權威林本堅，在當時力排眾議，認為將市面既有的一九三奈米微影透過水折射的效果要比當時被期待接棒的一五七奈米的效果更好。

ASML也迅速呼應台積電，一年後，推出世界第一台以水為介質的浸潤式微影實驗樣機，EUVL產業化試驗樣機ADT（ALpha Demo Too1)，其NA為0.25，獲得了32 nm的解析度,。

該技術大受歡迎，迅速成為業界主流，日本的Nikon與佳能投入巨資研發的一五七奈米微影技術，竟從此被擱置。

這是這家半導體設備業的後起之秀，成為世界第一的關鍵轉折。

該公司在微影市場的市占率因此從2001年的25%，一路快速爬升到現在的80％。

不斷提高技術整合能力和嚴格的供貨商認證與管理；

除了掌握關鍵技術外，要能有效整合，更必須需要了解每個細節，才能辨識出好壞，做出最完美的組合。

ASML形容自己的整合行動為做一個好的足球隊長，指揮有專長的前鋒、後衛、邊鋒等各司其職，共同開發，這就好像是在爵士樂的即興表演中，只要指揮說一聲，「今天用A短調演奏。

」大家便能心領神會地奏出美妙的歌曲。

例如和蔡司的合作，就持續了20多年，一直十分順暢，互利共贏。

最關鍵零件之一，由德國蔡司生產的反射鏡得做到史無前例的完美無瑕，瑕疵大小僅能以皮米（奈米的千分之一）計。

這是什麼概念？ASML總裁暨執行長溫彼得（Peter Wennink）接受《天下》獨家專訪時解釋，如果反射鏡面積有整個德國大，最高的突起處不能高於一公分高。

變客戶為股東，全力發展；

大獲成功的ASML意識到，要想長盛不衰，除了要具備關鍵技術和整合能力，和客戶的關係也必須緊密。

因此，在摩爾定律趨緩之際，ASML抓準時機，找來客戶當股東，共同投資下一代光刻技術，讓ASML能繼續專注在研發關鍵技術上。

「如果沒入股，到時候別人都是打折價，我是全價怎麼辦？設備不買我的怎麼辦？」在分析英特爾、三星、台積電為何要共同入股ASML的時候，有業界人士如是說。

今天的ASML最高端的EUV光刻機，3400B，已累計收到的訂單有21台，總價值達到了23億歐元，單價超1億歐，媲美一架F35戰鬥機。