光刻機巨頭:中國需求強勁,看好對華出口

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【文/觀察者網 谷智軒】

當地時間1月23日,荷蘭光刻機霸主阿斯麥(ASML)公司公布了2018年第四季度及全年業績報告。

觀察者網注意到,該公司執行長彼得•維尼克(Peter Wennink)在當天的聲明中特別指出,中國對其產品的需求強勁,繼續看好對中國的出口。

作為目前全球最先進極紫外(EUV)光刻機的唯一供應商,阿斯麥在美國牽頭的《瓦森納協定》(Wassenaar Arrangement)的影響下,一度對中國禁售高端光刻設備,阻礙了中國在晶片製造領域的發展,但此種局面在去年迎來轉機。

2018年5月,《日經亞洲評論》曝料稱,中國晶片加工企業中芯國際已向阿斯麥訂購了一台最先進的EUV光刻機,價值1.2億美元,預計2019年年初交貨。

阿斯麥的EUV光刻機

去年第四季度,阿斯麥凈銷售額31億歐元,凈利潤7.88億歐元,毛利率44.3%;去年全年,該公司凈銷售額109億歐元,凈利潤26億歐元。

阿斯麥方面表示,已與尼康簽署了諒解備忘錄,以解決兩者之間的專利糾紛。

預計這一糾紛對去年的毛利率將產生1.31億歐元的負面影響。

同時,該公司一家電子元件供應商去年12月發生火災,將對今年第一季度的銷售額造成大約3億歐元的影響,第二季度能消除大部分影響,完全恢復則要等到今年下半年。

2018年12月,阿斯麥一供應商工廠發生火災

「去年第四季度的銷售額高於預期,銷售和盈利均創下了年度新紀錄。

過去一年,公司在技術創新方面也取得了重大成功,將推動我們未來幾年的增長。

」維尼克表示。

他透露,2018年第四季度收到5台EUV設備訂單,2019年客戶對EUV系統的需求達到30台,預計通過阿斯麥EUV光刻機生產的晶片在2019年將面向消費者和企業。

「在去年第四季度末,我們的客戶對終端市場需求放緩做出了回應,將部分光刻系統的交付從2019年上半年推遲至下半年,以平衡供需。

」 維尼克說。

他同時表示,就今年全年而言,基於客戶對於最先進節點的技術轉型和生產能力的大力投資,EUV和浸入式系統的需求將得到推動,邏輯晶片部門預計將成為增長驅動力。

值得注意的是,這位執行長特彆強調,「中國的需求強勁,繼續看好對中國的出口。

阿斯麥「壟斷」EUV光刻機

光刻機是半導體製造領域的核心設備之一,阿斯麥則是這個行業內的領軍企業。

美國數據分析機構TIN的數據顯示,2017年阿斯麥的市場營收份額占比為87.4%,高出第二名尼康75.1個百分點(10.3%)。

而在EUV光刻機上,阿斯麥更是處於「壟斷」地位——這家公司是全球唯一能生產EUV光刻機的企業。

作為現今最先進的晶片製造設備,EUV光刻機是唯一能夠製造7納米以下製程的設備,因此也被稱為「突破摩爾定律的救星」。

目前,三星和台積電正在競爭生產7納米工藝技術晶片,這兩家公司都訂購了阿斯麥的EUV光刻機。

而在2017年3月,中芯國際也宣布將進軍7納米工藝技術的研發。

去年5月,中芯國際執行長趙海軍在一次電話會議上稱,2018年公司將資本支出從19億美元上調至23億美元,用於先進位程的研發、設備開支以及擴充產能。

同月,《日經亞洲評論》曝料稱,中芯國際已向阿斯麥購了一台最先進的EUV光刻機,將於2019年年初交貨。

為此,中芯國際耗資1.2億美元,這相當於其2017年的凈利潤(1.264億美元)。

上述媒體當時表示,雖然中芯國際的技術落後三星、台積電兩到三代,並且現在還在28納米和14納米製程上掙扎,但是中芯國際購買第一台EUV光刻機的舉動,凸顯了其提升中國自主半導體製造的決心。

中芯國際員工在上海晶圓廠

《瓦森納協定》阻礙中國高科技國際合作

本文開頭提到的《瓦森納協定》,全稱《關於常規武器和兩用物品及技術出口控制的瓦森納安排》,是世界主要的工業設備和武器製造國在巴黎統籌委員會解散後,於1996年成立的一個旨在控制常規武器和高新技術貿易的國際性組織。

《瓦森納協定》擁有33個成員國,中國不在其列,其主要目的是阻止關鍵技術和元器件流失到成員國之外。

值得注意的是,該協定雖然允許成員國在自願的基礎上對各自的技術出口實施控制,但實際上,成員國在重要的技術出口決策上受到美國的影響。

在半導體領域,受限於該協定,在晶片設計、生產等方面,中國一直不能獲取到國外的最新科技。

不過,在《日經亞洲評論》曝出上述消息後,阿斯麥發言人回應表示,對包括中國客戶在內的全球客戶都一視同仁,且向中國出售EUV光刻機並沒有違反《瓦森納協定》。

近年來,阿斯麥和中國市場互動頻繁,除了中芯國際外,其客戶還有華虹半導體、長江存儲、合肥長鑫、英特爾大連廠、SK海力士西安廠、福建晉華等。

在2018年上半年,中國市場已占阿斯麥營收約20%。

2018年5月,阿斯麥出售給長江存儲的光刻設備運達武漢

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