中芯國際突破封鎖，第四季度量產7nm晶片，晶片國產化要實現了？

2020-09-04

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晶片實現國產化迫在眉睫，目前國內晶片廠商也在加快進行晶片技術的研發，爭取掌握更多的核心技術，早日追趕國際頂尖水平。

與此同時，格力、阿里等國內巨頭企業也都紛紛加入到造芯的隊伍中，進行中國芯的研發。

而中芯國際作為中國大陸地區最大的晶片代工廠，這兩年也背負重任，國人也對其寄予厚望。

果不其然，中芯國際並沒有讓國人失望，去年年底實現了14nm製程工藝晶片的量產，推動國產晶片前進一大步。

14nm實現後，中芯國際馬不停蹄地進行7nm製程工藝晶片的研發。

近日，其首次對外公開N+1代和N+2代工藝的情況，中芯國際CEO梁孟松表示和14nm製程工藝相比，N+1代工藝性能提升20%，功耗降低57%，晶片面積減小55%，N+2代工藝比N+1代工藝在性能上獲得的提升更高，當然其成本也更好。

中芯國際N+1代工藝和台積電第一代7nm製程工藝晶片比較接近，N+2代工藝和台積電的7nm+工藝比較接近，去年中芯國際已經完成了N+1代流片，目前客戶正在進行產品驗證，預計將在今年第四季度正式開始實現量產。

據悉，N+1代工藝無論是在功耗還是在穩定性方面的表現都和目前市場上比較成熟的7nm工藝產品相當，但是在性能方面還有些差距，雖然性能有很大的提升，然而其只能接近於台積電或三星的10nm工藝，而N+2代工藝才能和7nm製程工藝相匹敵，只是和台積電、三星的產品相比依然有些差距。

需要注意的是，中芯國際實現7nm製程工藝晶片的生產並沒有依靠EUV光刻機，或許是因為沒有EUV這一先進的光刻機設備，所以中芯國際7nm產品才無法和台積電、三星的產品相匹敵，但台積電的第一代7nm製程工藝晶片也沒有使用EUV製程工藝，所以第一代產品和有無EUV光刻機設備的關係比較小，而這也表明中芯國際在技術方面還是存在一定的差距，日後還得追趕。

晶片研發沒有捷徑可走，只能一步一個腳印。

不過，7nm之後的5nm、3nm以及製程工藝更先進的產品則必須使用EUV光刻機，只是現在國內訂購的光刻機因為美國的原因遲遲未能發貨，不知道這時候會影響到中芯國際日後的發展？中芯國際日後又能否擺脫對國外廠商的依賴，推動中國芯實現真正的強大？

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2020-09-27

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