5納米晶片國產化?為之喝彩但別被誤導!

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現在Made in China已經享譽全球,可中國雖然是一個製造大國,卻並不算是科技強國,尤其在半導體產業上,核心的技術都掌握在別人手中,晶片製造設備的95%都是依賴於進口。

起步晚,底子薄,造成了民用領域的國產晶片製造很長時間以來都處於一種落後的狀態。

不過隨著國家的重視與政策的傾斜,國產晶片也已經取得了不錯的進展,現在至少已經有紫光國芯、合肥長鑫、福建晉華三家公司在LPDDR4晶片的研發與製造上有了重要的突破。

而紫光國芯的DDR4內存晶片更是很快就將面市。

但說到晶片製造就不能不提到光刻與蝕刻這兩個關鍵的工藝,目前世界上先進的晶片工藝已經進入了7納米製程,甚至5納米製程,但是光刻、蝕刻作為晶片生產的最關鍵步驟,技術要求非常之高,頂尖的光刻機、蝕刻機的生產與製造都集中在荷蘭ASML等幾家大公司。

國內的半導體企業也並未放緩追趕的步伐,據最新消息報導,全球最大的代工企業台積電,就將在它最先進的5納米晶片製程生產線上,採用國產的刻蝕機設備,華為的5納米麒麟處理器晶片,就會採用這款世界領先的國產5納米蝕刻機。

這台5納米等離子體蝕刻機是中微半導體公司自主研製的,性能優良,不然也不會得到台積電的驗證。

中微半導體位於上海金橋出口加工區,成立於2004年,是由 「矽谷最有成就的華人之一」 尹志堯放棄了美國的百萬年薪,帶領三十多人的團隊突破重重阻力回國後創辦的。

可是能夠加工5納米的晶片元件,並不代表著就能夠生產5納米晶片,刻蝕只是晶片製造眾多關鍵環節當中的一環,此次5納米刻蝕機所取得的突破固然可喜可賀,但是在光刻機領域,我們還是一個嚴重落後的狀態,目前國內最為先進的光刻設備公司上海微電子也只實現了 90納米 光刻機國產化。

而無錫影速僅僅實現了200納米光刻機國產化,這都與7納米製程相差甚遠。

道路雖遠,但前途光明,相信在不遠的未來國產晶片將會突破一個個技術壁壘,從而實現真正的國產化。


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