到頭了？台積電5nm工藝受阻：頻率提升不足15%
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現在，台積電以及三星已經開始量產7nm，但Intel的10nm仍然在跳票當中。
三星和台積電當然不會等Intel，5nm也應該要提上日程了，日前台積電公開了部分5nm工藝製程的相關規格，但看上去並不如理想。
台積電5nm工藝將會使用荷蘭ASML Twinscan NXE:3400 EUV光刻機系統，進一步加大EUV的適用範圍，相比7nm電晶體密度可以增加80%，從參數上看性能本應該有相當大幅度的提升。
但是，5nm所帶來的頻率提升實際上只有15%，功耗也智能降低20%左右。
由於新技術尚不成熟，不管是技術、成本還是生產良率，都不能滿足量產的需求，所以採用5nm工藝製程的新品不會在近期內推出。
不過，明年台積電的第二代7nm將會嘗試使用EVU極紫外光刻系統，提升工藝，電晶體密度可以在第一代的基礎上增加20%。
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