文章標籤：推仔新聞明年完成GAA工藝開發性能提升

「推仔說新聞」三星明年完成3nm GAA工藝開發 性能提升35%

文章推薦指數： 80 %
投票人數：10人

大家應該都知道在前段時間日本和韓國開始進入了「撕逼」模式，雙方在貿易上面互相制裁，扯後腿、下絆子，就像我們熟知的，日本在前段時間正式對半導體行業所必要的高純氟化氫、光刻膠等重要原材料的對韓出口實施管制。

其實這個管控已經得到了部分放寬，畢竟按照日本官方所稱經過審批後還是可以得到出口的。

不過這似乎並沒有影響到三星在日本舉行的名為「三星晶圓代工論壇」的會議舉辦，在此次的會議上面，三星向外界公布了旗下新一代工藝的進展，其中3nm工藝明年就完成開發了。

相較於隔壁的台積電，三星在先進工藝領域，不管是10nm、7nm還是5nm節點，其進度都比台積電晚一些，這也是側面導致了目前台積電幾乎包攬了所有7nm晶片訂單，而三星自己只拿到了IBM、NVIDIA及部分高通的訂單。

但是作為代工大廠的三星，也不會像GF那樣放棄自己的工藝研發，他們將節點直接瞄準到了3nm工藝上，並宣稱將於2021年量產。

值得一提的是，在3nm節點之後，三星的工藝將得到根本性的轉變，從FinFET電晶體轉向GAA環繞柵極電晶體，而本文中著重提及的3nm工藝所使用的將是第一代GAA電晶體，三星稱其為3GAE工藝。

三星稱，在採用了這種GAA電晶體結構之後，他們製造出了MBCFET（Multi-Bridge-Channel FET，多橋-通道場效應管），它可以顯著增強電晶體性能。

不僅如此，MBCFET還兼容現有的FinFET的技術及設備，從而加速工藝研發和量產。

而最讓用戶們所關心的性能方面，三星同樣也給出了自己的答案，採用3nm工藝的核心相較於先的7nm工藝，其核心面積減少45%，功耗降低50%，性能提升35%。

在推仔看來先不說三星這麼搞是不是打算化身成為PPT大廠，但是按照三星此前的研發路線圖，在這次會議上面公布有關3nm工藝的更多細節從時間來看也到時候了，考慮到目前韓日之間的貿易戰也著實讓三星如坐針氈，放出一些利好也不足為奇。

更何況就像文中所說，三星依然在之前的工藝上面落後了，如果3nm再不加快腳步，怕還是要在台積電屁股後面吃灰好久了。

請為這篇文章評分？

相關文章　

從7nm到3nm GAA，三星為何激進地採用EUV？

來自：集微網 文/樂川 隨著聯電、格芯先後退出半導體先進工藝競賽，目前仍有實力一爭高下的，僅剩下台積電、三星和英特爾。就當前進展而言，台積電公布的7nm晶片已有50多款在流片，可算是遙遙領先。英...

閱讀更多

5nm還沒量產，2納米晶片要來了？

現在我們所使用的手機，其晶片製造工藝很多為14nm，部分新品為7nm。而到了5G時代，5G手機晶片將全面採用7nm工藝甚至5nm工藝。可以說，7nm晶片的普及，暗示著5nm量產也不遠亦。不僅如此...

閱讀更多

英特爾10nm工藝發布，正面PK友商

上月，國際半導體巨擘英特爾在北京舉行了其近十年來在華的首次製造工藝的技術介紹。此次會議英特爾眾多高管悉數出席。會上英特爾首次公布了自家最新的10nm工藝技術細節，並深度解析摩爾定律，並揭示目前關...

閱讀更多

三星計劃在9月4日展示3nm GAA工藝最新進展

日本在6月4日宣布，管制對韓國出口光刻膠、氟化聚醯亞胺和氟化氫三種用於半導體製造的原材料，讓韓國面板、半導體兩大支柱行業面臨危機。日本管制的三種主要材料中，用戶製造光科技光源的氟化氫影響最大，對...

閱讀更多