半導體設備商訴訟大戰開始，尼康起訴ASML和卡爾蔡司侵權

半導體領域的專利大戰已經從IC領域延伸到設備領域，尼康今日宣布，已對荷蘭半導體行業光刻系統供應商阿斯麥（ASML）和德國光學及光電子學設備廠商卡爾蔡司（Carl Zeiss）提起訴訟，指控這兩家公司未經授權而使用其光刻技術。

尼康稱，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟。

卡爾蔡司是阿斯麥的光學設備供應商。

尼康在一份聲明中稱：「阿斯麥和卡爾蔡司在未經尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統中使用尼康的專利技術。

」

當前，光刻系統被廣泛應用於製造半導體，而阿斯麥又主導著半導體光刻機市場。

評級機構「惠譽評級」（Fitch Ratings）今年1月發布的調研報告顯示，在高端光刻機市場，阿斯麥的份額高達90%。

尼康在訴訟文件中稱，要求阿斯麥和卡爾蔡司對未授權使用專利技術而做出賠償。

對此，阿斯麥總裁兼CEO彼得·溫尼克（Peter Wennink）稱：「尼康的訴訟毫無依據，沒有必要，為半導體市場製造了不確定性。

」溫尼克還稱，阿斯麥曾多次試圖與尼康談判，希望能對當前的一份交叉授權協議進行延期。

10nm工藝節點即將大規模普及，同時這也意味著我們很快進入7nm階段，不過，7nm的技術挑戰已不可同日而語，其中的關鍵就是EUV（極紫外）光刻機。

下圖是荷蘭ASML公司顛覆時代的EUV光刻機NXE 3350B示意圖，單價超過6億人民幣，現貨還要等。

在當今高端沉浸式光刻機中荷蘭ASML（阿斯麥）占據80%的份額，是絕對的龍頭。

近日，阿斯麥也公布了財報數據，Q1凈營收為19.4億歐元，毛利率47.6%，而它們所做的一切，不過是賣出數十台光刻機而已。

其中主要包含三部分，分別是深紫外光（DUV）微影、全方位微影（Holistic Lithography）和極紫外光（EUV）微影，前者用於10nm量產和7nm的研發，迄今累計裝機60多台。

而最高端的EUV光刻機，僅僅在Q1晚些時候出貨了第一台NXE：3400B，而收到的訂單已經累計21台，總價值23億歐元，單價超1億歐，媲美一架F35戰鬥機。

這第一台的客戶如無意外應該就是Intel，而後者目前用的最多的還是前一代EUV系統NXE 3350B，即使這樣，全球也才部署了6套而已，供不應求。

在半導體領域發展就是一條長跑路，因為技術在不斷進步，所以只有不斷的投入不斷的創新才有出路，ASML CEO Peter Wennink在接受媒體採訪時曾表示創新和開放是ASML成功的秘訣---從飛利浦分拆以後，由於經費緊張，因此ASML和供應商一起分享利潤，並通過和利時校際微電子研究中心（IMEC）合作了解IC最新發展和需求，而且不同於尼康，ASML 80%零部件外購因此獲得了最新的技術，由於有創新，ASML一舉擊敗尼康占據高端沉浸式光刻機龍頭，這些經驗值得本土公司借鑑。

（部分內容來自網絡）

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