光刻機廠商撕破臉被尼康起訴後ASML反訴侵權

2020-11-24

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【觀察者網TMT報導】4月28日，荷蘭晶片光刻設備供貨商阿斯麥（ASML）宣布針對尼康（Nikon）在半導體生產設備、平面顯示器和數位相機生產設備等多款產品上存在超過10項專利侵權一事提出反訴。

這是繼尼康4月24日宣布向ASML提起訴訟後的一項行動，ASML已斷然否認尼康的指控。

ASML總裁兼執行長Peter Wennink表示：「我們在別無選擇的情況下提起反訴。

多年來，我們曾多次試圖與尼康就交叉授權協議延展一事進行協商，但尼康沒有為此做出任何真正的努力，反而選擇控告ASML專利侵權，公司對此感到失望。

」

Peter進一步強調，ASML始終相信，雙方能以協商的方式來解決，對半導體產業而言是好的，可以推動產業的創新與合作，更可減少這類讓產業無法集中精力在真正重要事情上的不必要專利訴訟案件，且尼康提起的訴訟毫無根據，這將為整個半導體產業帶來不確定性。

此前4月24日，尼康宣布在荷蘭、德國與日本針對ASML和合作夥伴卡爾蔡司（Carl ZeissAG）的專利侵權提起訴訟，並表示ASML及卡爾蔡司兩家公司在未經尼康的許可下將其微影（lithography）技術專利用於光刻機上，並運用在半導體製造業中。

尼康在訴訟文件中稱，要求ASML和卡爾蔡司對未授權使用專利技術而做出賠償。

過去，ASML曾多次面對尼康提出的專利侵權指控。

尼康在2001年向美國國際貿易委員會提起指控。

兩年後，該委員會認為ASML並無侵權，並就全部15項指控判決ASML勝訴。

2004年，ASML和尼康簽訂了一項專利交叉授權協議，部分專利已獲永久授權，其他專利的授權日期已於2009年12月31日結束，雙方同意互不採取法律移動的過渡期也在2014年12月31日結束。

尼康表示，之所以提起訴訟，是因為ASML和卡爾蔡司兩家公司在授權期限和專利權的過渡期到期之後，雙方在協商延長交叉許可協議未達成。

尼康曾在半導體設備產業叱吒一時，是全球第八大半導體設備廠商。

1993年尼康的半導體曝光設備全球市占率達48.4%，幾乎在市場稱王。

1984年設立的ASML，在創建初期遠遠不及尼康。

然而尼康好景不常，至2000年左右，ASML市占率開始快速攀升，最後不僅超越尼康。

目前在全球的半導體設備市場中，ASML主導半導體光刻機的產品。

根據惠譽評級在2017年1月份的一份研究報告中指出，這家荷蘭公司在這樣的高端的半導體設備中，占有90%的市場占有率。

而根據ASML在19日所公布的2017年第1季財報顯示，第1季營收凈利達19.4億歐元，毛利率為47.6%，EUV極紫外光微影系統的未出貨訂單則累積到21台，價值高達23億歐元。

而且預估ASML在2017第2季營收凈利將落在19到20億歐元之間，毛利率約為43%到44%。

而尼康則每況愈下，根據其公布的2017財年第三季度財報（2016年4月1日~12月31日）顯示，營業利潤下降了41%，尼康凈利潤虧損0.5億元人民幣，而上年同期盈利還高達11億人民幣。

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