ASML 成半導體軍備賽最大贏家

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台積電在10 月17 日召開的第3 季法說會上，宣布上調資本支出40 億美元，由原先的100~110 億美元，大幅上調至140~150 億美元，創下台積電單年資本支出的新高紀錄。

而早在10 月7 日，台積電搶在法說會前所發布的一則新聞稿，已悄悄凸顯出當前半導體大廠EUV（極紫外光刻）軍備競賽的熱度。

新聞稿中宣布，導入EUV 光刻機技術的7 nm增強版（N7+）製程，已於第2 季開始量產。

台積電宣稱，7 nm製程量產已超過1 年的情況下，N7+良率與7 nm已相當接近。

台積電此舉被外界解讀為，是要向搶先量產EUV 但良率似乎不如預期的三星「示威」。

在法說會上宣布新增的40 億美元資本支出，就包含採購多台單價逾1 億美元的EUV 光刻機設備。

台積電企業訊息處資深處長孫又文向《財訊》證實，「除了7 nm之外，所有先進節點如6 nm、5nm等，都將採用EUV 作為製程的一部分。

但浸潤式光刻機仍然是未來所有先進位程節點的重要工具。

」儘管台積電在7nm以下的更先進納米製程中，EUV 與浸潤式光刻機技術將並重，但未來勢必對於EUV 機台採購需求看漲。

波長新里程 突破摩爾定律

巧合的是，就在10 月15 日，全球半導體光刻設備龍頭ASML於歐洲與美國那斯達克掛牌的股票，股價分別以243.2 歐元與267.54美元，雙雙創下歷史新高紀錄，今年以來的漲幅也分別高達逾76% 和71%。

為何這個來自荷蘭的半導體設備大廠股價會漲翻天？答案就是：由ASML獨家提供的EUV 光刻機技術，這正是台積電為持續維持技術領先，大力加碼投資的新設備。

過去20 年，全球半導體廠商都仰賴當時最先進的浸潤式光刻機機台，採用193 nm波長的光刻出電路圖案；然而，隨著晶片微縮愈來愈精細，浸潤式光刻機技術已無法應付，導致摩爾定律恐難以再延續。

因此台積電、英特爾、三星等半導體大廠都引頸期盼著，ASML展開研發的波長僅有13.5 nm的EUV 光刻機機台，可以突破浸潤式光刻機機台在半導體製程的技術瓶頸。

然而，EUV 光刻機機台的研發難度更高，研發費用也持續升高，讓ASML愈來愈吃不消，原本應該在2005 年就該量產，進度卻一再延宕。

為加快EUV 研發進度，2012 年，英特爾、台積電、三星展開一項創舉—向他們的設備供應商ASML投入了大量資金。

當時，3 大巨頭總共投資高達38.5 億歐元，取得約23% 股份，其中英特爾擁有15%、三星取得3%、台積電則有約5% 的股份。

英特爾還額外投資ASML的後續研發計劃33 億美元；三星也為研發計劃投入了2.76億歐元。

經過漫長研發，如今ASML是全球唯一可量產EUV 光刻機設備的大廠，無論三星、台積電、英特爾、中芯國際等半導體大廠，全都要靠ASML生產的EUV 光刻機設備，才能在先進納米製程中導入EUV 光刻機技術。

隨著三星、台積電的EUV 製程相繼成功投產，英特爾也在加速EUV 製程進展，未來還有更多中國半導體大廠也將在EUV 製程摩拳擦掌，一場世界級的EUV 軍備競賽已如火如荼開打，角色如同「軍火商」的ASML自然是最大贏家。

果然，就在10 月16 日，艾司摩爾的第3 季法說會上，總裁暨執行長PeterWennink揭露令外界為之一亮的消息，「我們在第3 季完成7台EUV 出貨，其中3 台是NXE:3400C（產能更大的最新型號）。

同時接到來自邏輯與存儲器客戶的23 台EUV 新訂單，不僅創下單季最高訂單金額紀錄，達51.11億歐元，也證實邏輯和存儲晶片客戶均積極將EUV 光刻機技術導入晶片量產。

總結來說，ASML對於2019 年的整體營收目標維持不變，今年對於ASML來說仍是成長的1 年。

」

訂單紛至 第4 季毛利驚人

展望第4 季，Peter Wennink仍深具信心地表示，預計第4 季銷售凈額將達約39 億歐元，這將創下歷史新高。

此外，第4 季毛利率將高達48%~49% 之間，大大高於第3 季度的43.7%。

利潤預期將會提高的主因來自於EUV 光刻機最新型號機台NXE:3400C，具備更高的ASP（平均銷售價格）。

台積電錶示：「鑒於明年5G 部署的前景更加樂觀，在過去的數個月中，對7 nm與5 nm的需求已顯著增加，」因此，台積電決定將2019 年全年的資本支出增加40億美元，以滿足不斷增長的需求。

「在新增的40 億美元資本支出中，約15 億美元用於7 nm產能，25 億美元用於5 nm產能。

」

10 月16 日，摩根大通出具一份報告，給予ASML的評價是優於大盤，並訂定年底前目標價為240 歐元，此一目標價格是由於預估2025 年每股盈餘將達18歐元，本益比13 倍，「我們提高了倍數，以反映出EUV 在市場滲透率上有更好的能見度。

」若觀察近期艾司摩爾的股價表現，可發現此一論點也頗獲市場認同。

若以平均每兩年推出一個先進納米製程估算，以目前可預知的7 nm、6 nm、5 nm、3 nm、2 nm製程，憑藉著EUV 光刻機機台，未來ASML至少有10年的好光景。

特別是，隨著半導體大廠軍備競賽打得更加激烈，ASML身為全球獨家EUV 設備供應商，也將更展現出贏者全拿的氣勢。

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