中芯國際定製的光刻機被延期供貨，有沒有美國因素？
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11月7日據外媒報導：荷蘭ASML光刻機對中國廠商斷供一事，ASML公司官方也發表了聲明，否認了延遲出貨、斷供等說法，稱媒體報導有誤，ASML對全球客戶是一視同仁。
對於所謂的延期、斷供一事，ASML否認，表示根據瓦森那協議，出口EUV光刻機給中國公司需要取得荷蘭政府的出口許可，該許可證今年底到底，ASML公司正在申請新的出口許可，目前正在等待荷蘭政府批准。
針對荷蘭ASML公司延遲出貨EUV光刻機的報導，中芯國際剛剛也作出了回應，稱「極紫外光（EUV）還在紙面工作階段，未進行相關活動。
公司先進工藝研發進展順利。
目前，研發與生產的連結一切正常。
客戶與設備導入正常運作。
」
早些時候ASML也澄清稱，關於日經新聞（NIKKEI）有關中芯國際相關報導有誤，「延遲出貨」僅為其媒體推測，ASML從未評論或確認，對其將推測直接定性為事實作為新聞標題並在文中闡述，表示抗議。
據了解，中芯國際目前量產的最先進位程為14nm，12nm已經取得重大突破。
而EUV光刻機主要用在7nm及以下製程。
根據劉明院士所說，我國在EUV光源、多層膜、掩膜、光刻膠、超光滑拋光技術等方面取得了一些研究進展，但是總體來說，國內的光刻技術與國外技術差距依然有15到20年，是整個集成電路中差距最大的環節。
荷蘭ASML公司的EUV光刻機已經可以製造7nm及以下工藝，但是國內的光刻機只能做到90nm工藝級別，多數是用在低端生產線上，或者是面板生產線上，28nm及以下的工藝依然需要進口ASML的光刻機才能解決。
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