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歷史性突破！首台28nm國產光刻機即將交付，擺脫晶片制約指日可待

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一直以來，我國的半導體行業都深受西方國家的制約，究其原因就是我們缺乏先進的光刻機。

如果美國斷供我們晶片，我們有華為，展訊，紫光，中芯；如果美國限制台積電等代工廠，國內的中芯國際可以頂一頂。

雖然國產晶片性能差了很多，但也不至於完全束手無策。

不過，倘若美國限制荷蘭ASML的光刻機賣給我們，那國內的半導體行業就真的要陷入寒冬了。

光刻機作為科技工業的集大成之作，需要幾千家供應商和一套完整的整合體系，才能生產出來，它也被譽為半導體工業皇冠上的明珠。

目前在世界範圍內，荷蘭ASML公司的光刻機是最先進的，已經達到了5nm工藝。

而我國尚未形成完整的產業鏈，需要技術攻關的地方還有很多。

當下最先進的國產光刻機還停留在90nm階段，和ASML的5nm差距十分明顯。

不過，最近上海微電子裝備(集團)股份有限公司宣布，將在2021-2022年交付第一台28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。

這台28nm光刻機大幅縮小了我國和荷蘭的差距，在我國半導體行業發展上具有里程碑式的意義。

別看28nm和ASML的5nm隔著好幾代的差距，但它已經是世界第二的水準了。

（之前排第二的日本尼康僅能生產55nm。

）而且在光刻機製程上，28nm是一個瓶頸，突破了28nm，接下來生產十幾nm，甚至是10nm以內都會相對容易一些。

萬事開頭難，產品疊代一旦開始，人才體系，資金扶持會源源不斷地湧入。

我國的光刻機研發也將迎來快速發展階段，從步履瞞珊到一路小跑。

當然，我們必須認識到，除了7nm光刻機，卡爾蔡司的鏡頭，瑞典的步進電機，美國的雷射光源，我們暫時還無法完成國產化，仍需要很長一段時間的攻關。

但我們依然可以相信，光刻機的發展道路是曲折的，前途是光明的。

中國是一個善於創造奇蹟的國家，哪怕再怎麼技術封鎖，兩彈一星、核潛艇、載人航天，我們照樣一個不落都有了。

光刻機也不例外，總有一天我們會告別無「芯」之疼，不再受美國制約。

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