中國晶片將發生巨變,不再受光刻機限制,中芯國際傳來好消息
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眾所周知,隨著我國科技水平不斷提高,但關鍵核心技術還依舊掌握在歐美手中,特別半導體一直受到國外的壟斷和打壓,而隨著我國對晶片的需求急劇增加和消耗大,一旦國外對此採取斷供,那麼我國信息產業將會受到毀滅性打壓。
雖然我國晶片很大部分來自台積電,但始終擺脫不了美國的干預,對我國實施打壓。
而作為大陸第一大晶片生產基地的中芯國際,正處於發展階段。
雖然我國在片設計及封裝測試方面,不斷取得新突破,逐漸拉近國際水平。
但距離國際頂尖水平還有一段距離,在晶片製造企業至少落後3-5年,在晶片工藝製程落後3代。
就是在這樣子的條件下,中國堅持打造屬於自己的「芯」,特別經歷中興華為事件,很多企業把「芯」當成未來發展方向。
與台積電相比,中芯國際發展道路要坎坷多,在當時要技術沒有沒有技術,要人才沒有人才,因為國外對此類技術嚴格把守,一切只能靠自己去摸索,當然離不開政府的大量的資金投入,以及很好利用「市場化運作」才闖出了一片天。
從28nm到14nm,再到現在的7nm工藝,如果不是美國從中阻撓,荷蘭ASML公司未能及時交付EUV光刻機,可能中芯國際現在已經取得了更大的成就。
大家都知道,晶片的升級離不開先進的光刻機,台積電為什麼在晶片工藝處於領先地位,其中源於荷蘭光刻機給予和扶持力度大。
相反中芯國際就沒有那麼幸運。
中芯國際要想在晶片有一片天地,就必須越過光刻機,否則難有機會。
這一次中芯國際向世界證明了自己的實力,越過光刻機,衝刺7nm。
改良後的中芯國際N+1,與 與市場上的7nm相比,在功耗、穩定性方面非常相似,唯一的區別就是性能,N+1的性能比14nm提高了約20%。
這在追趕世界領先企業就更進一步,填補了我國在7nm晶片市場完全空白的窘境。
對於早已實現7nm工藝台積電自然不甘與中芯國際站到同一起跑線上,開始對5nm、3nm工藝投入新的研發中。
以此來保持自己的領導地位,不過隨著未來的發展,國內晶片研發能力將與國際縮小距離。
對此你怎麼看呢?
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