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中芯國際或能繞開光刻機 實現"偽7nm"量產

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歐界報導：

說到晶片領域，雖然很多人都會覺得陌生，但是絕對會有一個概念，那就是晶片在科技領域裡屬於高端科技。

但是其實不只有晶片本身是高端科技，就連晶片生產研發的整個過程工序也是十分高端，沒有具備一定的實力的企業是沒有辦法生產出合格優質的晶片的。

而在現在的晶片生產領域裡，最大的晶片代工廠就是大名鼎鼎的台積電。

台積電雖然擁有全球領先的代工技術，但是大股東卻是美國公司，並且不日還要"赴美設廠"。

而我們最大的晶片代工廠中芯國際，卻依然面臨缺乏EUV極紫外光刻機，遲遲不能突破10nm以下製程的尷尬境地。

晶片生產過程中最重要的就是光刻機，而台積電的代加工設備就是使用了荷蘭的asml的產品。

但儘管沒能從荷蘭引進7nm製造工藝的光刻機，但中芯國際也可以繞過ASML光刻機，採用N+1工藝製造出接近7nm工藝的晶片。

近日，中芯國際稱N+1工藝的晶片將於年底量產。

據悉，N+1工藝對比14nm功耗降低了57%、邏輯面積小了63%、SOC面積減少55%。

這換算下來，正是可以比肩台積電的7nm晶片。

也就是說，我們沒有ASML的EUV光刻機，也能做出7nm晶片。

但因為其在性能和規格上和台積電規定的標準7nm晶片還有所差距，所以被業界稱為"偽7nm"。

等以後中芯國際的技術上去了，自己也可以制定一個業內通用的晶片標準。

中芯確實不易，一直以來，台積電霸占著這個市場，掌握著絕對話語權。

中芯與台積電的大戰，屢屢受挫。

但意外的是，中芯並沒有放棄，而是再次向世界先進位程發起衝鋒！如今中芯國際這個是DUV工藝實現的7nm，雖然成本比EUV高些，但起碼是解決了從無到有的問題。

總而言之，中芯國際現在已經成為全球第三家掌握10納米以下工藝的晶片企業了，中芯國際不僅僅是為在為自己爭氣，也是讓我們國家揚眉吐氣。

先有華為，後有中芯國際，國企不再是過去廉價低成本的象徵，而是慢慢躋身進世界排名前列，在各個領域裡留下自己的名字。

華為跟中芯國際是個例，在未來，他們不會孤獨，因為有更多的國企正在崛起的路上。

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