中芯國際1.2億美元下單7納米ENV光刻設備，5年內配套工藝齊突破
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ASML 7納米光刻設備
據相關媒體透露，中芯國際在4 月份下單其首台EUV設備，購自荷蘭半導體設備製造商ASML，價值1.2億美元.
中芯預定的EUV預計在2019年初交付。
但據有關人士估計，因為設備的出口許可證，不是ASML說了算，還要聽美國的。
ASML的表示，公司對待包括中國在內的全球客戶都是一視同仁的，根據瓦森納協議向中國客戶出售EUV設備沒有限制。
一位接近中芯的業內人士表示，1.2億美元的價格和2019年的交付時間可能不太準確，但是下了訂單是確實的。
雖然目前中芯國際14nm取得飛速進展，但是進一步邁進7nm還有較大距離。
中芯國際對未來先進工藝做儲備是意料之中的，也證明該公司對未來發展的路徑非常清晰。
由於EUV光刻與之前的193nm不同，從原理到配套是個產業鏈，包括如EUV光刻膠、掩膜、pellicle、檢測設備等。
對於中芯來說，要從人員培訓開始，正好是個學習機會，等中芯能做7nm可能至少5年以上，還趕得上。
中芯國際在製造工藝方面大約比台積電、三星和英特爾落後兩到三代。
三星是全球最大的內存晶片製造商，而英特爾在個人電腦和伺服器微處理器領域占據主導地位。
目前中芯國際仍在努力改進自己的28nm工藝，去年梁孟松加盟使其14nm工藝研發進程提速不少。
三星和台積電則正在7nm領域展開競爭。
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