進一步突破!中國半導體巨頭崛起,率先生產出了5nm刻蝕機
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眾所周知,光刻機技術一直是我國半導體技術的一塊心病,到目前為止,我國最先進的光刻機精度僅僅才90nm,而其他國家的7nm光刻機相比真的差得太多了。
雖然我們在光刻機技術上沒有取得特別好的成就,不過卻在光刻機的兄弟刻蝕機取得看重大突破。
對於晶片製造有所了解的人都知道,晶片製造有兩個非常重要的設備,一個是ASML的EUV光刻機,另一個就是刻蝕機,而這兩個設備占據了晶片製造工序的70%,所以,缺少任何一種設備就會導致晶片製造產業備受限制。
不過就在今年的年初,中國率先製造出了與光刻機配套的5nm刻蝕機,占領了全球5nm刻蝕機的制高點。
這次的突破也意味著中國在刻蝕機領域達到了全球領先,而做到這一步的企業就是中微電子。
中微電子是我國唯一在晶片製造領域率先突破的一家企業,目前中微公司生產的5nm刻蝕機已成功進入台積電產業鏈,很快就可以投資量產,到時候中國也將成為半導體一大巨頭。
在之前這都是不敢想的事情,中國可以這麼快的趕超其他國家成為頂尖,由此可見,中國的技術是非常頂尖的,雖然現在在光刻機技術上與其他國家相差比較遠,但是相信很快就可以再次突破,登峰造極!
雖然中國在此前一直沒有得到突破,但是現在又一個國內半導體巨頭崛起,率先生產出了5nm刻蝕機,再一次領先世界,這樣的突破也進一步讓國內的晶片技術得到更多的國產化,而作出這一突破的企業就是中微電子。
該企業在國內晶片領域當中一直有突出的表現,而且也能夠得到領先位置。
目前,該公司生產的5nm刻蝕機已經成功進入台積電產業鏈,用不了多久就能夠實現量產。
在這種情況下,中國也就能夠在半導體行業占有領先地位。
在此前因為晶片受到限制,所以我國的一些企業被其他國家封鎖,帶來了很大的損失,而這一次的5nm刻蝕機得到突破,也就意味著我國在突破封鎖方面又近了一步,可以不用再花大價錢購買別國的刻石機。
不過現在依舊需要去努力做出更多的改進,因為這種關鍵性的技術仍然需要得到完善,畢竟僅僅是光科技技術的成功還遠遠不夠,因為製作晶片中所涉及到的技術很多。
此次5nm刻蝕機的成功破冰也意味著中國製造又一次的超越那些已開發國家,突破他們的封鎖。
從此以後,我國就可以不再花大價錢去購買別國的刻蝕機。
雖然刻蝕機已經成功突破,但是光刻機技術的發展還需更加努力,不過大家都相信在我國的科研人員的努力下,總有一天光刻機也會有巨大突破。
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