又一中國半導體巨頭崛起，5nm刻蝕機到來，再次領先世界
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眾所周知，光刻機技術一直是我國半導體技術的一塊心病，到目前為止，我國最先進的光刻機精度僅僅才90nm,而其他國家的7nm光刻機相比真的差得太多了。
雖然我們在光刻機技術上沒有取得特別好的成就，不過卻在光刻機的兄弟刻蝕機取得看重大突破。
對於晶片製造有所了解的人都知道，晶片製造有兩個非常重要的設備，一個是ASML的EUV光刻機，另一個就是刻蝕機，而這兩個設備占據了晶片製造工序的70%，所以，缺少任何一種設備就會導致晶片製造產業備受限制。
不過就在今年的年初，中國率先製造出了與光刻機配套的5nm刻蝕機，占領了全球5nm刻蝕機的制高點。
這次的突破也意味著中國在刻蝕機領域達到了全球領先，而做到這一步的企業就是中微電子。
中微電子是我國唯一在晶片製造領域率先突破的一家企業，目前中微公司生產的5nm刻蝕機已成功進入台積電產業鏈，很快就可以投資量產，到時候中國也將成為半導體一大巨頭。
在之前這都是不敢想的事情，中國可以這麼快的趕超其他國家成為頂尖，由此可見，中國的技術是非常頂尖的，雖然現在在光刻機技術上與其他國家相差比較遠，但是相信很快就可以再次突破，登峰造極！
根據消息，目前ASML公司已經開始向5nm工藝進發，接下來就是投入到生產苹A14晶片、驍龍875以及麒麟1020，這些晶片都將使用5nm技術，而到那個時候，中國的5nm刻蝕機也已經開始量產，這樣的話別國一些晶片製造商就很有可能來進口中國的刻蝕機，到時候我國的經濟發展也將更進一步。
此次5nm刻蝕機的成功破冰也意味著中國製造又一次的超越那些已開發國家，突破他們的封鎖。
從此以後，我國就可以不再花大價錢去購買別國的刻蝕機。
雖然刻蝕機已經成功突破，但是光刻機技術的發展還需更加努力，不過大家都相信在我國的科研人員的努力下，總有一天光刻機也會有巨大突破。
中國晶片的癥結，這篇文章講透了！
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