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進一步突破！中國半導體巨頭崛起，率先生產出了5nm刻蝕機

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在晶片技術不斷崛起的過程中，各個國家都需要掌握一定的主動權才能不會受制於其他國家，而我國在這一方面一直存在一些缺陷，目前我國最高端的光刻機也只是有90nm的精度。

與其他國家所擁有的7nm精度相差太多，所以在很多時候會受到其他國家的晶片壓制。

光刻機也是晶片製造過程當中非常重要的一個設備，除此之外刻蝕機同樣也占有很重要的作用。

這兩種設備差不多在整個晶片製造工程中占據了70%，在任何一個設備當中出現問題，都有可能會使得整個晶片製造過程受到限制。

雖然中國在此前一直沒有得到突破，但是現在又一個國內半導體巨頭崛起，率先生產出了5nm刻蝕機，再一次領先世界，這樣的突破也進一步讓國內的晶片技術得到更多的國產化，而作出這一突破的企業就是中微電子。

該企業在國內晶片領域當中一直有突出的表現，而且也能夠得到領先位置。

目前，該公司生產的5nm刻蝕機已經成功進入台積電產業鏈，用不了多久就能夠實現量產。

在這種情況下，中國也就能夠在半導體行業占有領先地位。

在此前因為晶片受到限制，所以我國的一些企業被其他國家封鎖，帶來了很大的損失，而這一次的5nm刻蝕機得到突破，也就意味著我國在突破封鎖方面又近了一步，可以不用再花大價錢購買別國的刻石機。

不過現在依舊需要去努力做出更多的改進，因為這種關鍵性的技術仍然需要得到完善，畢竟僅僅是光科技技術的成功還遠遠不夠，因為製作晶片中所涉及到的技術很多。

一旦有一個環節無法得到突破，那就會受到壓制，而現在我國與其他國家之間的晶片技術仍然有很大差距，這是需要在日後去突破的方面。

科研在不斷進步著，而相關的人才也能得到更多的提升，在這種情況下，自然也就可以帶來更強大的表現。

對於一個國家科技力量的提升來說，這也很關鍵。

好了，今天就為大家介紹到這裡，我們下一期再見！

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