三星：公司3nm領先台積電一年，領先英特爾三年

2020-08-31

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來源：內容來自「經濟日報」，謝謝。

儘管日韓貿易衝突持續延燒，三星電子原定9月在日本東京的晶圓代工論壇將如期舉行。

三星屆時預料將展示自家先進位程技術，並提供用於生產3納米以下晶片，名為「環繞閘極」（GAA）技術的製程套件。

三星據稱在GAA技術領先全球晶圓代工龍頭台積電一年，更超前英特爾（Intel）兩到三年。

南韓媒體BusinessKorea報導，三星28日宣布，2019年「三星晶圓代工論壇」（SFF）將如期於9月4日在東京舉行，且已於26日在網站上開始受理報名。

在日韓貿易緊張不斷升高之際，業界正懷疑這場論壇能否如期在東京舉行，三星這項決定消弭了外界的疑慮。

產業專家分析，三星想要傳達的訊息是，儘管面臨日本的「斷貨」威脅，三星電子旗下的晶圓代工事業不受中斷。

報導指出，三星將展示自家奈米製程技術，並提供名為「環繞閘極」（GAA）技術的製程套件。

GAA技術將用於3納米、甚至更精密的製程技術。

日本當局在4日加強管制三項重要半導體原料的出口，其中，日制光刻膠為極紫外光（EUV）微影技術的關鍵材料，讓三星的晶圓代工部門首當其衝，也削弱與台積電在7納米晶片的競逐能力。

EUV製程是三星欲在2030年於全球記憶體、無晶圓廠及晶圓代工業務穩坐龍頭寶座的關鍵。

在EUV製程與台積電旗鼓相當的三星電子，正快馬加鞭量產7納米晶片，盼能借提前進度超車台積電。

但日本本周非常可能把南韓踢出「白色名單」，三星的高科技原料進口預料將更加受限。

三星預定未來幾個月完成位於華城的第一條EUV晶片產線，並計劃之後在京畿道平澤建設另一條EUV產線。

如今，三星一名高階主管指出，「考量到當前情況，我們必須考慮投資新EUV產線的時機」。

三星電子自5月開始陸續在美國、上海及首爾舉辦晶圓代工論壇，待9月論壇落幕後，下一場將論壇於10月在德國慕尼黑登場。

台積電回應：有信心維持領先

面對三星積極衝刺晶圓代工，並企圖在3 納米製程超車台積電，台積電發言系統表示，不對競爭對手的技術發展做任何評論，並強調絕有信心在7納米、5納米，甚至3納米製程持續維持全球領先地位。

台積電供應鏈分析，台積電在製程推進深思熟慮，且有雄厚客戶群為後盾，讓台積電每推出一項先進位程，絕對滿足客戶的性價比，且不與客戶競爭，是領先群雄的最大利基。

台積電目前的7納米電晶體的密度，已非三星能匹敵，台積電遙遙領先三星後，再導入更先進的5納米製程，雖然三星急於想在3納米切入GAA電晶體設計架構，認為要用更先進的技術，搶食台積電現有客戶，但進入5納米後的光罩費用極為昂貴，更遑論3納米製程。

三星雖然在記憶體一直保持領先地位，因此也想複製記憶體成功模式，在晶圓代工挑戰台積電地位。

*免責聲明：本文由作者原創。

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