EUV技術仍不成熟 Intel、三星7nm遇阻
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雖然工藝狂魔台積電口口聲聲7nm/5nm/3nm，但是一個現實問題是，用於10nm以下晶片生產的關鍵技術或者說設備EUV（極紫外光刻）光刻機仍面臨不少商用難題。
昨日在加州舉辦的國際光電工程學會(SPIE)年度會議上，三星和Intel的專家紛紛坦言，EUV推進的困難。
三星表示去年底他們生產出了首款EUV光罩，瑕疵已經很少。
而Intel則是從1992年就著手開發，去年底為晶圓廠出貨其首款達到商用品質的EUV光罩，目前已經參與到14、10和7nm無缺陷網線生產。
在現有的8個核心EUV計劃中，有6項計劃已經準備好或即將就緒。
英特爾EUV計劃負責人Britt Turkot指出，用於覆蓋EUV晶圓的防塵薄膜仍在開發中，而用於檢測EUV光罩的新工具也還驗證中。
不過，三星表示，他們仍然認為EUV可用於其7nm製程節點，而Intel雖然持同樣看法，但表示需等待完全成熟後導入。
目前在最高端的沉浸式光刻機中，荷蘭ASML（阿斯麥）占有80%的份額，其中NXE 3350B是全部14套EUV系統中的絕對主力（累計6套），而其單價高達6億元人民幣，等同於一台F35戰鬥機的價格。
Intel是3350B最資深的使用者，但是EUV小組專家Britt Turkot稱，雖然其可作業時間超過了75%，但一旦運行，光罩問題就會層出不窮。
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