ASML：把我的設計圖紙給你，你也造不出我這樣的光刻機

而這台極紫外光刻機，也是中國唯一的一台極紫外光刻機，用於5/7/8nm晶片的製造，而這台極紫外光刻機真的對中國芯際很重要，甚至對中國芯都很重要。

因為目前中國製造不出高端光刻機，ASML是最全球最強的，而中芯國際在量產14nm之後，下一個要研發的就是10nm、7nm工藝，缺少不行。

當然，也有人表示，既然這樣，那中國就趕緊花高價去研發，趕緊追上來就好了，事實上目前從技術演進的路徑來看，中國光刻機水平至少差ASML10年以上。

中國最強的SMEE差ASML至少10年以上

更重要的是，還不僅僅是技術差距，在人才、經驗的積累上，可能更重要。

ASML曾經就說過，就算我公開圖紙，大家也造不出和我一樣強的光刻機出來。

我們知道光刻機的原理其實就是放大的單反，光刻機就是將光罩上的設計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上，形成圖形，其中最核心的就是鏡頭。

其次就是解析度，光刻機的解析度是光刻機最重要的技術指標之一，決定了光刻機能夠被應用於的工藝節點水平。

最後是套刻精度，也就是指前後兩道光刻工序之間彼此圖形的對準精度，如果對準的偏差過大，就會直接影響產品的良率。

而光源相對好說，但解析度、套刻精度就是制約其它廠商前進的腳步，因為解析度和套刻精度就決定了製造晶片的工藝節點，可以分為0.35um、0.25um、0.18um、90nm、65nm、40nm、28nm、20nm、16/14nm、10nm、7nm等。

而像解析度、套刻精度這些不僅僅是技術好就能夠實現的，而是那些工程師幾十年如一日的試驗，調校出來的。

也正因為這樣所以ASML才能吹牛，說自己就算公開圖紙，別人也造不出和它一樣的光刻機來，因為零件一樣，你也未必能夠實現它的精度。