新闻发布 - 中微半导体

2021年6月9日，中微半导体设备（上海）股份有限公司在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付客户庆祝仪式。

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中微公司董事长尹志尧博士荣膺“安永企业家奖2021中国大陆大奖” 12/2021 2021年12月10日，第十六届安永企业家奖颁奖典礼在深圳举行，中微公司董事长兼总经理尹志尧博士从众多候选人中脱颖而出，荣膺“安永企业家奖2021”，同时获得了唯一的“安永企业家奖2021中国大陆大奖”。

中微公司PrismoUniMax®MOCVD设备订单超100腔 12/2021 中微半导体设备（上海）股份有限公司今日宣布其MOCVD设备迎来又一里程碑：PrismoUniMax®MOCVD设备订单超100腔。

中微公司喜迎第1500个CCP刻蚀设备反应台付运里程碑 11/2021 中微半导体设备（上海）股份有限公司2021年11月02日迎来了一个重要的里程碑：中微公司的电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第1500个反应台顺利付运国内一家领先的半导体制造商。

中微临港总部和研发基地项目开工仪式顺利举行 10/2021 2021年10月22日上午，中微半导体设备（上海）股份有限公司临港总部和研发基地项目开工仪式在临港新片区项目现场举行。

临港新片区管委会领导、中微公司管理层和各参建单位代表共同出席了本次开工仪式。

中微公司荣获第四届中国质量奖提名奖 9/2021 第四届中国质量奖于2021年9月16日第四届中国质量大会正式揭晓，中微半导体设备（上海）股份有限公司荣获“中国质量奖提名奖”。

中微公司专利再次荣获中国专利金奖 6/2021 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司的发明专利“等离子体处理装置及调节基片边缘制程速率的方法”荣获第二十二届中国专利金奖。

中微公司临港产业化基地项目开工仪式顺利举行 6/2021 2021年6月20日上午，临港新片区隆重举行第二季度建设工程集中开工仪式，共计12个项目于各项目会场集中开工。

中微公司发布用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备PrismoUniMax™ 6/2021 中微半导体设备（上海）股份有限公司今日宣布推出专为高性能MiniLED量产而设计的PrismoUniMaxTMMOCVD设备，该设备在帮助LED芯片制造商提高产能的同时能够有效地降低生产成本。

中微公司首台8英寸CCP刻蚀设备PrimoAD-RIE200™顺利付运 6/2021 2021年6月15日，中微半导体设备（上海）股份有限公司首台8英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备PrimoAD-RIE200™顺利付运客户生产线。

中微公司ICP刻蚀设备Primonanova®第100台反应腔顺利交付 6/2021 2021年6月9日，中微半导体设备（上海）股份有限公司在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primonanova®第100台反应腔交付客户庆祝仪式。

中微惠创与德国DAS环境专家公司签订战略合作协议 3/2021 中微半导体设备（上海）股份有限公司旗下全资子公司中微惠创科技（上海）有限公司日前与德国DAS环境专家有限公司（DASEnvironmentalExpertGmbH，以下简称“DAS”）正式签订战略合作协议，双方将在半导体行业尾气处理设备领域展开紧密的合作，共同推动环保科技行业的发展。

中微公司发布双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备PrimoTwin-Star® 3/2021 中国上海，2021年3月16日——中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，上交所股票代码：688012）在SEMICONChina2021展会上正式发布了新一代电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备PrimoTwin-Star®，用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用。

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