TWI606482B - 用於電漿蝕刻腔室之變壓器耦合電容調諧匹配 ...
文章推薦指數: 80 %
TWI606482B-用於電漿蝕刻腔室之變壓器耦合電容調諧匹配電路 -GooglePatents 用於電漿蝕刻腔室之變壓器耦合電容調諧匹配電路 DownloadPDF Info Publicationnumber TWI606482B TWI606482B TW102138115A TW102138115A TWI606482B TWI606482B TWI606482B TWI606482B TW102138115A TW102138115A TW102138115A TW102138115A TW10213
延伸文章資訊
- 1博碩士論文行動網 - 全國博碩士論文資訊網
論文名稱: 變壓器耦合式電漿源特性量測與等效電路模擬分析. 論文名稱(外文):, The Characterization and Circuit Model of a Transformer ...
- 2國立交通大學機構典藏:變壓耦合式電漿製程設備之蝕刻率批片 ...
標題: 變壓耦合式電漿製程設備之蝕刻率批片控制. Wafer to wafer control of etching rate in Transformer Coupled Plasma Pro...
- 3國立交通大學機構典藏:變壓耦合式電漿製程設備之先進設備控制
關鍵字: 電漿;變壓耦合式電漿源;區域平均模式模型;順滑模態;反應曲面法;plasma;TCP;global model;sliding mode;response surface method...
- 4TWI599268B - 具有調變式電漿供應之製程腔室- Google Patents
本發明係有關一種腔室,於其中調變式電漿供應之製程可實施者。 ... 因此,該離子電流(配合電漿密度)得不受離子能量(配合該自給偏壓電路)的影響來進行調整。 ... 依據本實施例,一高頻電壓產生器...
- 5TWI606482B - 用於電漿蝕刻腔室之變壓器耦合電容調諧匹配 ...
這些問題包括有限的TCCT範圍、有限的變壓器耦合電漿(TCP,transformer coupled plasma)電力、高線圈電壓、以及線圈電弧作用。因此,反應器腔室的製程 ...