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這些問題包括有限的TCCT範圍、有限的變壓器耦合電漿(TCP，transformer coupled plasma)電力、高線圈電壓、以及線圈電弧作用。因此，反應器腔室的製程 ...

關鍵字: 電漿;變壓耦合式電漿源;區域平均模式模型;順滑模態;反應曲面法;plasma;TCP;global model;sliding mode;response surface method...

論文名稱: 變壓器耦合式電漿源特性量測與等效電路模擬分析. 論文名稱(外文):, The Characterization and Circuit Model of a Transformer ...

標題: 變壓耦合式電漿製程設備之蝕刻率批片控制. Wafer to wafer control of etching rate in Transformer Coupled Plasma Pro...

論文名稱(中文), 變壓耦合式電漿設備之蝕刻速率最佳化. 論文名稱(英文), Optimization of etching rate in Transformer Coupled Plasma...