離子輔助沉積

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搭载在光驰的成膜设备OTFC-1100,OTFC-1300上最适于各 ... tw | tw离子束辅助沉积光学镀膜系统（Ion beam assisted deposition）关键词：电子束蒸镀、热蒸镀、离子束辅助沉积、高真空镀膜设备、光学监控系统、OMS、 金属膜、. 氧化膜、IBAD、IBD、光学薄膜、紫外、红外膜、增透膜、增反膜、二氧化 ... tw共濺鍍薄膜沉積系統Co-Sputtering Deposition System - 微奈米科技組以物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition, PVD）的方式來沉積薄膜， ... 應用方式，因此有下列幾個主要的濺鍍技術：離子束濺鍍（Ion-beam sputtering）、離子輔助 ... | [PDF] PEALD 半導體元件製程應用關研究團隊提出電漿輔助原子層沉積技. Fu (plasma enhanced atomic layer deposition,. PEALD),以氧氣或氫氣電漿中的高能反應. 離子作為非金屬前驅物(還原劑,與基板表.離子液體特性及其在化學上的應用 - 材料世界網2014年1月16日 · 近年來，另一種新型態之離子液體—深共熔溶劑(Deep Eutectic Solvents; ... 離子液體輔助微波加熱法結合離子液體與微波加熱技術的優點，為現今液相化學 ...圖片全部顯示電子束蒸鍍設備 - 矽碁科技股份有限公司單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

為了獲得最大的製程靈活性，可以結合離子源以進行離子輔助沉積或者預清潔等功能。

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