离子束溅射和离子束沉积系统 - Denton Vacuum

离子束溅射(IBS)，也称为离子束沉积(IBD)，是一种薄膜沉积工艺，使用离子源，将靶材（金属或电介质）沉积或溅射到基片上，以形成金属或电介质膜。

因为离子束是等能的（ ... 离子束溅射-IBS解决方案离子束溅射(IBS)，也称为离子束沉积(IBD)，是一种薄膜沉积工艺，使用离子源，将靶材（金属或电介质）沉积或溅射到基片上，以形成金属或电介质膜。

因为离子束是等能的（离子具有相等的能量），且高度准直，所以与其他PVD（物理气相沉积）技术相比，其能够精确地控制厚度，并沉积非常致密的高质量薄膜。

IBD系统的典型配置是网格离子源、靶材和基片。

离子束聚焦在靶材上，溅射的目标材料沉积在附近的基片上。

通常的做法是，利用指向基片的第二网格离子源，提供离子辅助沉积(IAD)。

在沉积金属氧化物或氮化物膜时，IAD非常有助于改善膜的物理密度、水分稳定性、光学和机械性能。

此外，在沉积期间加热基片也可能改善整体性能。

离子辅助沉积对化学计量和膜厚的出色控制IBD的一个关键优势是可以独立控制多个参数，包括靶溅射速率和IAD参数—离子能量、离子电流密度和入射角，以控制薄膜化学计量和微观结构。

这种控制水平是离子束和其他溅射工艺的主要区别，使得IBD成为精密光学或半导体生产等最具挑战性的应用的理想选择。

丹顿真空设备有限公司已经开发出离子束溅射解决方案，为优异的膜厚和均匀性控制提供稳定的沉积速率。

有关详细信息和规格，请查看下面的IBD解决方案。

IonBeamEtchingIonbeametch(IBE)isanIBSprocessthatcanbeusedtopre-cleanasubstrate,ortocreateaspecificpatternonthesubstrate’ssurfaceusingmasking.Similartootherpre-cleanmethods,IBEcompletelyremovesparticlesfromthesubstratebeforedeposition;itcanalsobeusedtoremovealayerfromthesubstratesurfaceitselftoensureexcellentcoatinguniformityandadhesion.IBEisanexcellentoptionformaterialsandapplicationsthatrequireprecisespecsformaterialremoval.Itofferstightprocesscontrolandrepeatabilityforetchingpatternsontoasubstrate,particularlyforetchingstacksofmultiplematerialsorlayers.Asapre-cleaningmethod,IBEfeatureshigh-energyionsforahigh-impactplasmatreatment.ByleveragingDentonVacuum’sportfolioofInfinityionbeamproducts,youcanachieveexcellentuniformityandrepeatabilityinasystemthatisfullyequippedforhigh-volumeproduction.IonBeamSputteringSystems InfinityBiasedTargetModuleTheInfinityBiasedTargetSputterModuleisagreatsolutionforadvancedprocesscontrolandclosed-loopcontroloffilmpropertiesforIRoptics,focalplanearraysandlaserbarcoatings.查看详情 InfinityZ-FlexTheInfinityZ-FlexSystemenablesionbeamsputteringandetchingforsemiconductor,MEMS,datastorageandHAMRapplications.查看详情 InfinityPSIBEWhenyouneedaflexible,versatileionbeametchsystemforhigh-performanceetching,criticalthinfilmprofilemillingandglanceanglemilling,theInfinityPlanetarySystemIBEistherightsolution.查看详情 InfinityLoadLockEtchIfyouneedhigh-throughput,high-performanceetchingformarketslikesemiconductor,datastorage,MEMSandwaferprocessing,theInfinityLLEtchcanmeetthosedemands.查看详情 InfinityLANSTheInfinityLaboratoryAlloy&Nanolayersystemoffersunparalleledcontroloflayerthickness,interface,alloycompositionandmaterialsflexibilityforemergingapplications.查看详情 InfinityRMWhenyouneedahigh-qualityfilmforR&Dinemergingapplications,fromopticalinterferencecoatingstox-raymirroroptics,theInfinityRMSystemisthesolutionforyou.查看详情 LearnMore 资料汇总