雙離子束濺鍍系統之原理及應用

由於離子束濺鍍系統製備之薄膜具有膜會縝密、鍍膜時基板溫度較低、膜內孔隙較少、薄膜堆積密度高等優點，故常被使用於磁性、光學等各種薄膜的製備。

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影響指數（ImpactFactor）：某一期刊前兩年產出的論文，在統計年平均被引用的次數。

公式：（前兩年發表論文在統計年的被引用次數）÷（前兩年論文產出論文總篇數） 例如：2010年之影響係數（2011年呈現） 2009年A期刊產出論文15篇，2009年A期刊產出論文在2009年被引用20次 2008年A期刊產出論文16篇，2008年A期刊產出論文在2009年被引用30次 → 2010年的影響係數 =（20+30）÷（15+16）≒1.61 什麼是預刊文章？ 為提供讀者最前線之學術資訊，於期刊文獻獲同意刊登後、紙本印製完成前，率先於網路線上發表之文章即為預刊文章。

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doi:DOI 號 來源資料 真空科技 19卷4期(2007/04/30) 直流電弧離子沈積ITO透明導電薄膜研究 ImprovementsofUniformityandReliabilityfortheElectronEmissionofCarbonNanotubesinHighVacuumEnvironment 電泳自組裝方法製備聚苯乙烯微球之反蛋白石結構光子晶體 薄膜式光學低通濾波器 雙離子束濺鍍系統之原理及應用 光釋放能譜臨場監控反應性濺鍍氧化鈦薄膜之特性分析 以射頻磁控濺鍍法製備鋰錳氧化物陰極薄膜及其表面改質之研究 真空電漿與化學溶液表面改質整合技術之超微奈米晶種開發與應用 InvestigationofOpticalMechanismsofSiliconNanoclustersEmbeddedinSiliconNitride 快速熱退火氣氛對化學浴沉積製備ZnS薄膜之影響 P4-11 基礎與應用科學 > 基礎與應用科學綜合 基礎與應用科學 > 物理 工程學 > 工程學綜合 DOI： 10.29808/JVSROC 訂閱目次 書目管理工具 書目匯出 加入收藏 加入購物車 E-mail給朋友 列印書目 相關連結 問題回報 購買單篇 全文下載 雙離子束濺鍍系統之原理及應用 郭仲儀 ； 張書綺 ； 林信儒 ； 林克偉 真空科技 ； 19卷4期(2007/04/30) ， P4-11 繁體中文 DOI： 10.29808/JVSROC.200704.0001 雙離子束濺鍍系統；磁記錄媒體 分享到 摘要 │ 被引用次數 (12) │ 文章國際計量 摘要 〈TOP〉 由於離子束濺鍍系統製備之薄膜具有膜會縝密、鍍膜時基板溫度較低、膜內孔隙較少、薄膜堆積密度高等優點，故常被使用於磁性、光學等各種薄膜的製備。

有鑑於此，本文將詳細介紹Kaufman型寬束離子源與end-Hall離子源之工作原理與特性，如離子之生成、離子的加速與電子的發射(emission)等過程。

此外，也將介紹本實驗室利用雙離子束濺鍍系統之研究成果和離子束濺鍍系統於磁性薄膜之應用與磁記錄媒體之發展。

被引用次數 ( 12 ) 〈TOP〉 黃怡娟(2015)。

【鐵/釩】雙層薄膜經離子束轟擊後之微結構與磁性質研究。

中興大學材料科學與工程學系所學位論文。

2015。

1-52。

  陳俊豪(2014)。

鐵/氧化矽薄膜經氬/氧離子束轟擊後之微結構與磁性質研究。

中興大學材料科學與工程學系所學位論文。

2014。

1-53。

  陳復漢(2014)。

奈米鈷薄膜經氬/氧離子束轟擊後之微結構與磁性質研究。

中興大學材料科學與工程學系所學位論文。

2014。

1-70。

  張仁宏(2014)。

矽鐵雙層薄膜之微結構及磁性質分析。

中興大學材料科學與工程學系所學位論文。

2014。

1-43。

  王立楷(2014)。

離子束轟擊對銅/鈷氧化物奈米雙層薄膜之結構及磁性質影響。

中興大學材料科學與工程學系所學位論文。

2014。

1-64。

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