何謂離子束濺鍍法?
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A: 離子束濺鍍法係在高真空中利用獨立之離子源發射離子束濺射靶材，將靶材上的原子一顆一顆敲出飛越真空並有力的沈積在基板上，成為薄膜的一種鍍膜方法。
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2016/03/11
何謂離子束濺鍍法?
Q:何謂離子束濺鍍法(IonBeamSputteringDeposition,IBSN)?
A: 離子束濺鍍法係在高真空中利用獨立之離子源發射離子束濺射靶材，將靶材上的原子一顆一顆敲出飛越真空並有力的沈積在基板上，成為薄膜的一種鍍膜方法。
此方式所鍍出來之膜層為非晶相薄膜(Amorphous)，其密度很高，因此光散射程度很小，可做高級之鏡片，如低損耗雷射陀螺儀用之雷射鏡、測重力波干涉儀所需之雷射鏡等。
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A: 離子束濺鍍法係在高真空中利用獨立之離子源發射離子束濺射靶材，將靶材上的原子一顆一顆敲出飛越真空並有力的沈積在基板上，成為薄膜的一種鍍膜方法。
