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國產中微傳來喜訊，5nm蝕刻機來了，台積電已通過驗證

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眾所周知，半導體工藝是一項集大成的高精密科技，製成越高工藝也就越高，從65nm到32nm再到如今的10nm，因為製成難度問題淘汰掉了很多半導體企業，還在為更高製成研發的半導體企業也屈指可數了。

近日，國產中微傳來喜訊，旗下5nm等離子體蝕刻機通過了台積電的驗證，未來台積電生產5nm製成將會用到由中微提供的蝕刻機，該蝕刻機由國產中微完全自主研發，可喜可賀。


中微在半導體行業算是小有名氣了，該公司有多位留美歸國博士所創立，成立於2004年11月，總投資5億元，對於此次成功研發出5nm蝕刻機，中微半導體CEO尹志堯表示：在米粒上刻字的微雕技藝上，一般能刻200個字已經是極限，而我們的等離子刻蝕機在晶片上的加工工藝，相當於可以在米粒上刻10億個字的水平。

不過需要注意的是，中微搞定了5nm蝕刻機並不代表台積電就可以直接用來生產5nm製成了，因為蝕刻機只是眾多工藝中的一個環節而已，而最重要的光刻機，台積電仍然需要從荷蘭ASML進口。


所以說，我國半導體行業和世界大廠之間的差距還是很大的，尤其是最重要的光刻機，國內做光刻機最好的是上海微電子，但可惜微電子也僅能生產90nm，但令我們欣慰的是，國內有很多像中微這樣的半導體企業在不斷努力，差距也在不斷縮小。

對於像中微這樣的企業我們應該給予鼓勵和支持，完全的自主研發，不採用任何架構，希望中微再接再厲，可以在半導體行業占據一席之地。


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