又一國產晶片巨頭崛起!引入ASML光刻機:離世界頂尖還有多遠?

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近日有一則消息,在6月6日,華虹無錫集成電路研發和製造基地(華虹七廠)正式引入了首台ASML光刻機,目前首批25台光刻機工藝設備已經正式完成安裝並成功上電,後續還將會繼續引入10台ASML光刻機,其實華虹半導體是目前國內第二晶片代工企業,實力僅次於中芯國際,而這次引入ASML光刻機,勢必會再次增強實力,為中國「芯」貢獻一份新的力量。

其實,華虹半導體並不是大陸首家引入ASML光刻機的企業,此前中芯國際就從ASML引入了最新的EUV極紫外線光刻機,看用於生產手機CPU這類的微處理器晶片,價值1.2億美元,最高支持生產7nm工藝製程晶片。

根據此前官方介紹,這次華虹半導體將會在無錫建設一個占地約700畝,總投資超一億美元,無錫項目占地約700畝,總投資100億美元,月產能約4萬片的12英寸特色工藝集成電路生產線,據了解,華虹半導體所引進ASML的光刻機可用於10nm級(14~20nm)晶圓生產,支持5G和物聯網等新興領域的應用,最終將具備14nm三圍工藝的高性能晶片生產能力,預計將於9月進行試生產,12月形成量產能力。

隨著華虹半導體、中芯國際、國內存儲製造龍頭企業——長江存儲等企業相繼引進ASML的光刻機,將會再次提升我國晶片加工技術水準,讓國內的不少晶片巨頭得到迅速的發展與崛起。


國產晶片離世界頂尖水平又究竟還有多遠?

其實在手機SOC晶片設計以及封測領域,中國不少企業就能夠打造世界頂尖水準,但是在晶片製造方面,我們實際水準還是與世界頂級水平有著很大的差距。

不得不說,在晶片生產加工方面,光刻機真的一種重要的設備,沒有光刻機,對於國產晶片發展也是萬萬不行,但即使能夠買到最新的光刻機,也並代表我國的晶片生產水平就能夠馬上得到提升,就目前而言,我國與世界頂尖晶片代加工企業之間的水平差距,還是非常明顯,這也並不是光靠引入光刻機就能夠得到解決的。

簡單的舉個例子,目前台積電、三星的最高水準都是7nm工藝,預計明年將會進入到5nm工藝水平,反觀國內,中芯國際目前已量產的最高工藝水準為28nm,而未來工藝水準也將會提高至7nm,至於華虹半導體將會今年量產的14/28nm工藝,但實際上14nm工藝,台積電方面早在2014年就實現量產,可見國產晶片加工水準,還是有著5年左右的差距,但未來或許也將會隨著新的光刻機引入,以及自研光刻機方面的突破,而進一步得到提升。

從國內這三大半導體廠商開始密集採購ASML先進的光刻機設備,可以充分的了解到,國內的晶片加工製造水平也將會提升至一個全新階段,但也讓我們非常清楚的認識到,目前我國在高端光刻機領域依舊處於一片空白,與世界頂尖水平存在一定的差距,雖然引入光刻機能夠解決工藝提升的問題,但更重要的還是我國的相關人才以及技術要跟上來,引進光科技終究只是輔助國內晶片行業的發展,最終還是要靠自己一步一腳印創造出屬於自己的光刻機,小夥伴們,你們覺得呢?歡迎在評論區中留言討論!


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