中國晶片研究方向是什麼？技術再突破國人的驕傲

晶片受限於人的弊端
眾所周知，美國目前為止是世界上的超級大國，無論是在經濟、軍事、還是科技等方面都超越了全球各國。

蘇聯和美國在二戰中成為世界上最大的兩個超級大國，美國之所以能夠在二戰後一舉成為超級大國，靠的都是高科技，所以科技強國的道理也並非是空穴來風。

意識到科技發展的重要性之後，特別是在suv領域國產汽車已經取得了傲人的成績，像哈弗h6、吉利博越在銷量上已經超越了合資企業。

在我國龐大的基本粒子產業結構，要面臨核心技術受限於人的弊端的時候。

基本粒子的行為將受限於量子的不確定性，電晶體中的基本粒子就很容易產生隧穿效應，電晶體將變得不再是可靠的，晶片的製造同樣也面臨巨大的挑戰。

中國晶片技術也在不斷的獲得突破
大家都知道，任何一款基本粒子產品最核心的組件一定是主控集成電路，它就相當於是機器的「大腦」，沒有它就沒有了以後，在這起出口限制事件和解的前夕，中國集成電路巨頭高通與英特爾先後與華為簽訂了5G相關的合作協議。

中美兩國三大企業的「相互依存」程度正在不斷的＂加深＂，不過據說又一中國晶片製造商已經被美國限購，小小集成電路為什麼能夠成為大國的魔咒那，除了營收和占有率的增加外。

在近期，中國集成電路又傳出了好消息，技術上的3大突破，讓大批的國人笑開了花。

在產業鏈層面、集成電路、智能設備、軟體等技術也在不斷的獲得突破，但限於當時的技術，我國科技企業不可避免的需要面臨卡脖子的情況，愈後不可避免會留疤。

專家組的驗收和審核
所以在意識到問題的嚴重性後，作為我國科技巨頭的華為在集成電路領域投入大量研發資金，截止到目前已經研發出了全球頂尖的7nm集成電路製程工藝，打破了西方國家的技術封鎖，讓美國不在嘚瑟。

第二大技術，就是光刻機技術的突破，集成電路其實有兩方面，一個是設計，其中包括生產，貫穿設計，管理等多種製造環節，具備多種先進功能的製造過程。

另一個則是製造，而在往日中國自主研發的14nm光刻機，已經初步的等待著專家組的驗收和審核。

近期，據媒體報導，武漢光電國家研究中心的甘宗松團隊，目前已經成功研發9nm工藝製程的光刻機，與傳統光刻機技術不同是，國產9nm光刻機採用了二束雷射突破衍射極限，同時我國也掌握著重要的智慧財產權。

集成電路領域的發展
這些技術要麼很慢，例如堆疊2D蝕刻層，要麼就會限於特定的材料和形狀，在半導體行業中，集成電路製造商的工藝無論是先進還是落後，無論是優質還是劣質，都會直接決定了該集成電路製造商能不能為客戶生產出高端的集成電路。

這個研究方向是材料領域中競爭最激烈的方向，它和電子產業的發展有非常密切的關係。

目前半導體領域的技術更新的非常迅速，半導體集成電路的發展也在一路狂追，這個研究方向更是半導體集成電路製造的重要基礎。

現在現代集成電路製造產業依靠的就是光刻機，光刻機是制集成電路的核心裝備，我國在集成電路領域的發展確實取得了較為理想的成績，最後，個人想要說的是，大國發展自己的核心高科技產業需要堅持不懈投入總能夠得出結果。