文章標籤：何如中國多種項目壟斷半導體日本超過份額全球

全球份額超過50%！日本半導體壟斷項目10多種，中國何如？

文章推薦指數： 80 %
投票人數：10人

7月30日訊：在半導體設備領域，核心裝備集中在日本、歐洲、美國和韓國的四個地區，而競爭力最強的就是日本，市場份額超過50%的半導體中，日本就有10種之多。

其中在在光刻機領域，荷蘭的阿斯麥公司處於絕對壟斷地位，但是在電子素描畫設備、徒步顯影設備、清洗、氧化爐、減壓等這些前端設備和探測的測試設備的種種，日本企業都處於壟斷地位，不僅對中國壟斷，對歐美企業也壟斷，誰也沒辦法。

像光刻機這有用晶片製造的設備，尼康、佳能同樣都能打造，除了荷蘭的阿斯麥意外，好像只有佳能和尼康有點競爭力，但相比下來，這點競爭力也不算什麼。

而像這樣的一台光刻機，日本賣給中國一台都需要5到6億元人民幣，即使這麼貴也有人願意買，數量還十分有限，加上日本的海外訂單多過於日本國內銷售訂單，這足以看出日本半導體市場的火爆。

行行查，行業研究資料庫（網站 www.hanghangcha.com）

半導體指常溫下導電性能介於導體與絕緣體之間的材料，是電子產品的核心。

半導體行業商業模式從集成化向產業鏈垂直化分工演變，具有下游應用廣、生產技術工序複雜、產品種類多樣、技術更新快、投資高風險大等特點，並經歷了兩次空間上的產業轉移。

半導體行業經歷了三個發展階段，通常以4-6年為一周期，並且有加快的趨勢，與宏觀經濟、下游應用需求以及自身產能庫存等因素密切相關。

光刻機工作原理：光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。

光刻設備ASML高度壟斷，2018-2020年市場有望由88億美元成長至115億美元。

根據Technavio研究報告預測，2017年光刻機市場為88億美元，同比增長13%。

預計到了2020年，市場將達到115億美元，CAGR為9.18%。

在LOGIC領域，三星和台積電均在2018年進入7nm工藝，預計今年會量產。

台積電規劃2019年7+nm將導入EUV，2020年5nm工藝將正式導入並使用EUV。

三星則在今年5月23號製造出了全球第一個採用EUV光刻機的7nm LPP製程晶片，並準備2018年下半年投產。

隨著EUV在先進位程應用上的普及，預計光刻機市場將會有更快速地增長。

行行查，行業研究資料庫

請至網站www.hanghangcha.com

查看更多行業研究資料

請為這篇文章評分？

相關文章　

中國晶片與世界差距有多大？本文告訴你

中國晶片與世界差距有多大？前段時間中興所遭遇的晶片禁令，相信也讓國人感受到了一顆小晶片的分量，而中興在受到「定向打擊」後所釋放的信號更是令IT企業感到寒意襲人，一場關於中國缺「芯」的爭論也就此展...

閱讀更多