中微半導體設備有限公司：制勝關鍵在人才
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在過去9個多月時間裡，中微半導體設備有限公司取得了一系列成果：反應台交付量突破400台；單反應台等離子體刻蝕設備已交付韓國領先的存儲器製造商；雙反應台介質刻蝕除膠一體機研製成功，這是業界首次將雙反應台介質等離子體刻蝕和光刻膠除膠反應腔整合在同一個平台上……
「中微的成績，顯示了我們從2004年成立以來，一直保持了強勁技術和業務發展勢頭。
」中微公司董事長兼執行長尹志堯表示，「我們的技術團隊，每天都在為推動技術的進步，為給客戶提供最好的技術和設備，並為節省生產成本而努力奮鬥，實現我國集成電路產業的趕超。
」
據介紹，目前我國集成電路晶片有80%依靠進口。
尹志堯認為，改變這一情況的關鍵在人才。
據了解，一個16納米的微觀邏輯器件有60多層微觀結構，要經過1000多個工藝步驟，要攻克上萬個技術細節才能加工出來。
只看等離子體刻蝕這個關鍵步驟，它的加工尺度為普通人頭髮絲的五千分之一，加工的精度和重複性要達到五萬分之一。
中微公司從2004年成立之初，就營造友好、包容、開明的企業文化氛圍，大力吸引來自不同國家和地區、擁有不同背景的優秀人才。
中微也吸收一些從高校、研究所畢業的新人，早期加入的一些國內員工通過努力已經成為企業的骨幹。
尹志堯說，中微是一個研髮型企業，其核心不在於企業有多少設備、多少廠房、多少土地，而是有多少優秀的、一流的人才。
吸引人才、培養人才，在中微是企業發展頭等重要的大事。
有了人才，還要能夠「人盡其才」。
為了實現這一目標，中微對於研發中的挫折和失敗始終保持開放的態度，鼓勵研發人員大膽創新。
中微為研發人員創造了相對寬鬆的創新環境。
在這樣一支敢於創新、善於創新的技術力量支撐下，中微有了持續的技術進步。
比如，中微在剛剛涉足IC晶片介質刻蝕設備時，就推出了65nm等離子介質刻蝕機產品，隨著技術的進步一直做到45nm、32nm、28nm等，一直到現在客戶生產線上運行的16nm產品。
同時，中微一些基礎的研發也不斷地跟進尖端技術，以保證產品的研發能夠緊緊跟上甚至領先於國際上的技術發展水平。
(經濟日報記者
李治國)
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