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台積電6nm製程技術明年年底前量產，晶片依然是驅動力

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[PConline資訊]10月9日消息，據半導體製造商台積電日前透露，該公司6納米製程技術明年第一季度進入試產，明年年底前量產。

台積電稱，其極紫外光（EUV）微影技術之7納米強效版(N7+)製程已協助客戶產品大量進入市場。

導入EUV微影技術的N7+奠基於該公司成功的7納米製程之上，為6納米和更先進位程奠定良好基礎。

台積電還表示N7 +的量產速度為史上量產速度最快的製程之一，於2019年第二季開始量產，在7納米製程技術（N7）量產超過一年時間的情況下，N7+良率與N7已相當接近。

N7 +同時提供了整體效能的提升，N7 +的邏輯密度比N7提高了15％至20％，並同時降低了功耗。

台積電快速布建產能以滿足多個客戶對於N7 +的需求。

據悉，UV微影技術使公司能夠持續推動晶片微縮，因EUV的較短波長能夠更完美地解析先進位程的設計。

台積電的EUV設備已達成熟生產的實力，EUV設備機台也達到大量生產的目標，在日常運作的輸出功率都大於250瓦。

台積電稱，N7+的成功經驗是未來先進位程技術的基石。

台積電6納米製程技術（N6）將於2020年第一季進入試產，並於年底前進入量產。

隨著EUV微影技術的進一步應用，N6的邏輯密度將比N7提高18％，而N6憑藉與N7完全相容的設計法則，也可大幅縮短客戶產品上市的時間。

晶片越來越隱形，但它依然是驅動這一切的動力。

從這個角度說，台積電可謂是數字產品更新換代的最大促進者。

正是有了台積電，消費者最新款的蘋果、華為手機才用上了性能最先進的處理器和通訊晶片。

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