ASML:最先進的光刻機很快將進入中國
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中興事件以來,晶片一直作為國人心中的痛。
眾所周知,作為半導體晶片生產過程中最重要的一環,光刻機尤其是高端光刻機設備也備受關注。
然而國內半導體技術的發展卻受到上述關鍵設備等的掣肘。
目前,光刻機大廠荷蘭設備商阿斯麥 (ASML) 已經占據了高達80%的市場份額,壟斷了高端光刻機市場。
更關鍵的是,ASML已經成為全球唯一一家能向客戶供應最先進EUV光刻機的設備商。
而EUV光刻機售價都超過1億美元,落後EUV一代的ArF光刻機平均售價也在4000萬至5000萬歐元左右,可見光刻機的技術門檻極高。
儘管全球第二大晶圓代工廠商Globalfoundries(格羅方德,格芯)、第三大晶圓代工廠商台UMC(聯電)均已放棄7nm製程以及更先進工藝的研發,但ASML仍然對EUV光刻機的前景表示看好,同時也對未來中國市場客戶7nm光刻訂單信心滿滿。
近日,ASML中國區總裁沈波一上任,就參加中國集成電路製造年會,並接受了媒體專訪。
此前有消息指出,中芯國際今年已向ASML訂購了一台EUV光刻機,預計明年交付,用於7nm工藝技術研發。
而在傳統的沉浸式光刻機方面,沈波表示:「ASML的光刻機一直都有在國內銷售,2018年下半年ASML已開始出貨最先進的NXT:2000i,這台ASML最先進的設備也將很快在中國市場看到。
」
另外,就DUV光刻機而言,早先有媒體報導,長江存儲、上海華虹半導體分別向ASML訂購了193納米浸沒式光刻機和193納米雙極沉浸式光刻機NXT:1980Di,分別用於存儲晶片製造、晶圓代工等製造。
中國大陸市場正對ASML越來越重要。
相較於ASML前任的韓裔總座,此次換上了中國背景的沈波,似乎也顯示出了ASML深耕本地市場的決心。
根據ASML 2018年一、二季財報顯示,一季度中國大陸市場光刻機銷售占比20%,二季度中占比19%,與美國市場基本持平,並且超過了台灣地區。
預計2018年EUV光刻機的產量20台,2019年EUV光刻機的產能可提升到30台,到2020年EUV光刻機的產能可進一步上升到40台。
中國半導體產業要發展,除了技術設備,人才也很重要。
我國電子信息產業缺乏相關領域的人才,隨著集成電路產業的快速發展,人才短板已成為不爭的事實。
對此,沈波說道:「ASML致力於為中國光刻行業培養更多的人才,為未來將進入集成電路行業的大學生輸送知識。
」沈波表示,ASML注重國內整體半導體人才的培養,以及科普教育的推廣。
今年3月份,ASML與上海集成電路研發中心合作,在上海成立了第一個培訓中心,協助行業培訓高端工程技術人才。
另外,ASML還在深圳和北京設有上百人的研發中心,負責計算光刻和量測設備關鍵模組的研發。
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