反應式離子蝕刻機— 國立成功大學 - Research NCKU
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一般將蝕刻分為濕式蝕刻和乾式蝕刻，而乾式蝕刻（Dry Etching）又稱為電漿蝕刻（Plasma Etching）且屬於非等向性蝕刻，所以是目前最常使用的蝕刻方式。
電漿 ...
設備/設施: Center for Micro/Nano Science and TechnologyNo.1, University Road, Tainan City 701, Taiwan (R.O.C.)
701
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