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Mar11Fri201610:14
反應式離子蝕刻機RIE
反應式離子蝕刻機RIE（ReactiveIonEtching）介紹
【蝕刻原理】
在半導體製程中，蝕刻（Etch）被用來將某種材質自晶圓表面上移除。
蝕刻通
常是利用腐蝕性物質移除部份薄膜材料，以達到產生所需圖案（Pattern
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