13.56 MHz RF Capacitively Coupled Plasma (CCP) 電容耦合 ...

關鍵字: Enhanced Capacitive-Coupled High-Density Plasma;加強型電容耦合式高密度電漿;Dry Etch;A-Si Thin Film;乾蝕刻;非晶...

電容式耦合電漿(Capacitively Coupled Plasma, CCP)被廣泛應用於蝕刻與沉積製程中。本研究旨為探討輸入特製電壓波型(Tailored Voltage Waveform...

說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程. • 列出兩種高密度電漿源 ... 電漿是具有等量正電荷和負電荷的離子氣體 ... 平行板電極(電容耦合型). 電漿系統. 電漿. 射頻功率.

感應耦合電漿（英語：Inductively Coupled Plasma，縮寫：ICP）是一種通過隨時間變化的磁場電磁感應產生電流作為能量來源的電漿體源。

由於電感偶合模式其功率吸收較電容偶合模. 式來得佳，此時電漿密度將顯著地增加。由於ICP 之. 電漿密度(n ~ 1010- 1012 cm-3)較傳統電容式電漿(n ~. 109 ...