13.56 MHz RF Capacitively Coupled Plasma (CCP) 電容耦合 ...

在電容耦合RF電漿(CCP)反應器或處理室中，在兩相向之上部與下部電極間之間隙中產生電漿。圖1顯示處理基板用之CCP反應室100的實施例。如所繪的，一下部電極組件包含一 ...

感應耦合電漿（英語：Inductively Coupled Plasma，縮寫：ICP）是一種通過隨時間變化的磁場電磁感應產生電流作為能量來源的電漿體源。

電感式耦合射頻電漿是一種被經常使用在材料製程上的低溫電漿源，它的重要性在於廣泛的應用性，像薄膜沈積、乾蝕刻、濺鍍、光阻剝離等等。簡而言之，和其它的電漿源相 ...

Capacitively Coupled Plasma (CCP) 電容耦合電漿實驗We Provide RF Generator ...

說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程. • 列出兩種高密度電漿源 ... 電漿是具有等量正電荷和負電荷的離子氣體 ... 平行板電極(電容耦合型). 電漿系統. 電漿. 射頻功率.