感應耦合電漿- 維基百科,自由的百科全書
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感應耦合電漿(英語:Inductively Coupled Plasma,縮寫:ICP)是一種通過隨時間變化的磁場電磁感應產生電流作為能量來源的電漿體源。
感應耦合電漿
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圖1.一個感應耦合電漿火炬
「感應耦合電漿」的各地常用別名中國大陸電感耦合等離子體港臺感應耦合電漿[a]交感耦合電漿[7]
感應耦合電漿(英語:InductivelyCoupledPlasma,縮寫:ICP)是一種通過隨時間變化的磁場電磁感應產生電流作為能量來源的電漿體源。
[8]
分類[編輯]
如圖2,總共有三種不同的ICP供能裝置。
[9][10]
圖2.三種ICP發生裝置
應用[編輯]
ICP源的用途著有要四種:
用於電漿體光譜診斷:通過分析ICP源的光譜來分析電漿體原子組分,參見感應耦合電漿原子發射光譜(ICP-AES);
電感耦合電漿質譜分析技術:作為質譜分析的離子源,分析組分(ICP-MS);
用於反應離子刻蝕:通過ICP源產生低溫電漿體,刻蝕材料表面,改變材料的物理與化學性質(ICP-RIE);
氣相沉積薄膜技術(rf-ICP)。
參考文獻[編輯]
腳注
^感應耦合電漿質譜分析儀(Inductivelycoupledplasmamassspectrometry),物理化學儀器設備名詞[1][2][3][4];感應偶合電漿光譜[5];感應耦合電漿原子發射光譜法[6]
引用
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^inductivelycoupledplasma(ICP)網際網路檔案館的存檔,存檔日期2015-11-17.,國家教育研究院,物理學名詞
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閱論編質譜法
質量(英語:Mass(massspectrometry))
m/z
質譜圖(英語:Massspectrum)
質譜法軟體列表(英語:Listofmassspectrometrysoftware)
首字母縮略詞(英語:Listofmassspectrometryacronyms)
離子源
EI
CI(英語:Chemicalionization)
IA(英語:Ionattachmentmassspectrometry)
FAB(英語:Fastatombombardment)
FD(英語:Fielddesorption)
MALDI
APCI(英語:Atmospheric-pressurechemicalionization)
APLI(英語:Atmospheric-pressurelaserionization)
ESI(英語:Electrosprayionization)
DESI(英語:Desorptionelectrosprayionization)
GD(英語:Glowdischarge)
ICP
MIP
SS
PTR
TI
TS(英語:Thermospray)
DART
DAPPI
質量分析器
Sector
飛行時間(英語:Time-of-flightmassspectrometry)
四極杆(英語:Quadrupolemassanalyzer)
四極離子阱
彭寧離子阱
FT-ICR
Orbitrap
檢測器
電子倍增管
微通道板
戴利偵測器
法拉第杯
朗繆爾-泰勒探測器(英語:Langmuir–Taylordetector)
聯用
MS/MS
三重四級杆(英語:Triplequadrupolemassspectrometer)
HybridMS
GC/MS
LC/MS
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