arcing原因
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電容耦合式電漿源. Capacitively Coupled Plasma Source, CCP .駐波效應 standing wave effect .趨膚效應 skin effect .邊...
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電感式耦合射頻電漿是一種被經常使用在材料製程上的低溫電漿源,它的重要性在於廣泛的應用性,像薄膜沈積、乾蝕刻、濺鍍、光阻剝離等等。簡而言之,和其它的電漿源相 ...
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在電容耦合RF電漿(CCP)反應器或處理室中,在兩相向之上部與下部電極間之間隙中產生電漿。圖1顯示處理基板用之CCP反應室100的實施例。如所繪的,一下部電極組件包含一 ...
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由於電感偶合模式其功率吸收較電容偶合模. 式來得佳,此時電漿密度將顯著地增加。由於ICP 之. 電漿密度(n ~ 1010- 1012 cm-3)較傳統電容式電漿(n ~. 109 ...
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關鍵字: Enhanced Capacitive-Coupled High-Density Plasma;加強型電容耦合式高密度電漿;Dry Etch;A-Si Thin Film;乾蝕刻;非晶...