中國國產光刻機已交付兩台,未來打破市場壟斷,將指日可待

文章推薦指數: 80 %
投票人數:10人

晶片是當今高科技技術發展前沿領域的一大技術,在高科技產品之中發揮著至關重要的作用。

而光刻機則是晶片製造過程中必備的一項裝置,其性能如何,是否先進直接了晶片的性能如此。

如此關鍵的一項儀器自然是深受人們重視的,然而在全球市場,能夠製造出光刻機的企業寥寥無幾,幾乎都被荷蘭的ASML公司所壟斷,為了改變這一被動局面,我國一直在加大光刻機領域的投入,有重磅消息稱國產的光刻機已經交付了兩台,未來打破市場壟斷,或許也將指日可待。

這兩台光刻機同樣是由我國中芯國際推出的產品,想必大家對於中芯國際這一企業已經並不陌生,如今在晶片生產領域該企業幾乎能夠與台積電平起平坐。

同時該企業也是在危急時刻與華為企業達成合作,「拯救」華為企業的一大企業,如今除了在晶片生產領域,中芯國際在光刻機製造領域也取得了大的進展。

根據這一企業有關負責人的採訪,中芯國際推出的這兩台國產光刻機,已經實現了百分之七十的國產化,雖然距離完全的自主研發還有一段距離,但是只有要充足的時間,我們相對對於中國團隊來說,這些不是大的問題。

而未來我國還將有更多的企業投入到光刻機的製造之中,一方面實現光刻機的完全國有化,另一方面還要進一步升級現有技術,製造出更加精確的光刻機。

而且我國近些年來大力支持集成電路的發展,對該行業投入了將近3367億的科研基金,一旦在該領域獲得成就,也將助力光刻機的製造技術,共同促進我國高新技術產業的發展。

​當然我們當前只是取得了階段性的勝利,我國國產光刻機在未來還有很遠的路要走,還有一系列的難題要解決,但是如今我國已經邁出了第一步,我們相信相關科研專家們也將更具信心的繼續前進下去。

好了今天就為大家介紹到這裡,我們下一期再見!


請為這篇文章評分?


相關文章 

制約華為製造晶片的光刻機,研製它難在哪裡

製造晶片需要用到光刻技術,一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。光刻機是其中的關鍵系統,又名掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。...

打破技術壟斷!首台10納米光刻機應運而生

在早期的晶片發展中,我國一直處於劣勢,但現如今,隨著科技的發展,晶片技術也逐漸拉近了與國外的距離。其中華為海思、中芯國際、台積電這些晶片巨頭的深耕發展,讓我國逐漸擺脫「無芯」的困境。