華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進沉浸式光刻機:邁向14nm
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中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來一台EUV極紫外光刻機,未來可用於生產7nm工藝晶片,長江存儲也迎來了自己的第一台光刻機,同樣來自ASML,不過是193nm沉浸式,用於產20-14nm工藝的3D NAND快閃記憶體晶圓,7200萬美元一台。
據集微網報導, 5月21日上午,在上海浦東新區康橋工業園南區,華虹集團旗下上海華力集成電路製造有限公司建設和營運的12英寸先進生產線建設項目(「華虹六廠」)實現首台工藝設備光刻機搬入。
這台光刻機的型號是NXT 1980Di,依然是荷蘭ASML提供,後者官方顯示,這是一台193nm雙級沉浸式光刻機,用於10nm級(14~20nm)晶圓生產,它也是大陸裝備的最先進的沉浸式光刻設備。
華力微電子官網資料顯示,華虹六廠是該司的第二個12英寸晶圓生產線,設計月產能4萬片,工藝技術從28nm起步,最終將具備14nm三圍工藝的高性能晶片生產能力。
另外,根據賽迪顧問的統計,按照銷售額,上海華虹位列2017年國內十大集成電路製造企業第五位。
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