中國唯一光刻機巨頭,坐擁2400項專利,壟斷國內80%的市場
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5月中旬美國加強對華為晶片管制的消息,不出意外地引發業內譁然。
在美國的步步緊逼下,國內不少企業都開始未雨綢繆地加快「自研+去美化」的進程。
而考慮到台積電後續可能無法繼續為華為晶片代工的情況,中芯國際理所當然地被寄予厚望,但遺憾的是,中芯國際的7nm進程卻卡在了高端光刻機的缺席上。
那麼中國是否就對光刻機的製造一無所知呢?其實並不然,中國便有一個光刻機巨頭,如今已經坐擁2400項專利,壟斷國內80%的光刻機市場份額。
它就是上海微電子裝備股份有限公司。
據公開資料顯示:上海微電子成立於2002年,公司主要從事半導體、泛半導體以及高端智能裝備的設計和製造,而生產光刻機便是其主營業務。
作為內地光刻設備的龍頭企業,上海微電子曾經在中國半導體協會針對半導體設備商的實力排行中,以第五名的成績成為當時唯一一個上榜的專門研究光刻機的廠商。
與此同時,在國內中端先進封裝光刻機和LED光刻機市場,上海微電子還占據了80%的市場份額,實力絕對毋庸置疑。
此外,企查查數據顯示,截至2018年12月,上海微電子的直接持有的各項專利以及專利申請數量,更是超過2400項,「中國光刻機巨頭」的稱號也是實至名歸。
不過遺憾的是,即便上海微電子在國內光刻機市場是數一數二的存在,但若是放眼全球的話,上海微電子卻只能排在第四,被第一名的ASML以及第二三名的日本佳能和康尼等公司遠遠甩在身後。
而且相比於荷蘭ASML已經可以生產出適用於7nm,甚至5nm製程的高精度光刻機,上海微電子目前卻只能生產出90nm的光刻機,二者的差距一目了然。
值得一提的是,據5月17日消息,上海微電子計劃將在2021年交付首台國產28nm的immersion光刻機。
即便這一光刻機技術比之ASML有著近乎20年的差距,但是對於國產光刻機而言,依舊是一個極大的進步。
而另一方面,根據最新報導,上海微電子貌似又有新動作,預計在2020年12月,可能會下線首台採用ArF光源的SSA800/10W光刻機,這一光刻機,將擁有生產11nm晶片的實力。
更令人讚不絕口的是,若是其採用的華卓精科工作檯的套刻精度指標優於1.7nm的話,該光刻機或將擁有生產7nm晶片的實力。
所以從上述消息不難看出,如今實力在國內光刻機市場屈指可數的上海微電子,已經成為中國光刻機的希望。
不知對此,你是否認同?
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