Primo AD-RIE - 中微半导体

为了使生产效率最大化，Primo AD-RIE系统同样可以灵活地装置多达三个双反应台反应腔（即六个反应台）。

Primo AD-RIE具备能够满足最新一代芯片器件制造需求的先进性能， ... 关于中微 产品技术 投资者关系 新闻活动 招贤纳士 产品支持 关于中微 公司简介 愿景，使命，工作指导原则 领导团队 公司大事记 荣誉奖项 企业社会责任 商业道德准则 可持续发展 产品技术 刻蚀设备 MOCVD设备 环保设备 投资者关系 公司治理 新闻活动 新闻发布 近期活动 精彩瞬间 招贤纳士 董事长寄语 企业招聘 员工生活 产品支持 现场支持和零部件管理 质量保障 环境、健康和安全 EN / 中文 x 网站导览 关于中微 公司简介 愿景，使命，工作指导原则 领导团队 公司大事记 企业社会责任 新闻活动 新闻发布 近期活动 媒体剪影 产品技术 刻蚀设备 CCPEtchSystem PrimoD-RIE PrimoAD-RIE PrimoSSCAD-RIE PrimoHD-RIE PrimoiDEA ICPEtchSystem Primonanova TSVEtchSystem PrimoTSV MOCVD设备 PrismoD-BLUE PrismoA7 PrismoHiT3 环保设备 VOC净化设备 招贤纳士 董事长寄语 企业招聘 员工生活 投资者关系 公司治理 产品支持 现场支持和零部件管理 质量保障 环境、健康和安全 产品技术 主页 > 产品技术 > 产品详情 PrimoAD-RIE® 为40到7纳米芯片制造提供创新的刻蚀解决方案 PrimoAD-RIE®是中微第二代电介质刻蚀产品。

基于已被认可的PrimoD-RIE®刻蚀设备，PrimoAD-RIE应用了具有自主知识产权的新设计，配备了可切换双低频射频源，优化了上电极气流分布以及下电极温控系统。

为了使生产效率最大化，PrimoAD-RIE系统同样可以灵活地装置多达三个双反应台反应腔（即六个反应台）。

PrimoAD-RIE具备能够满足最新一代芯片器件制造需求的先进性能，目前已被广泛应用于40到7纳米后段制程以及10纳米前段制程的开发和量产。

此外，中微基于PrimoAD-RIE开发了子系列产品PrimoAD-RIE-e和PrimoAD-RIE-cr。

PrimoAD-RIE-e配备了自主研发的四区动态静电吸盘，每一制程步骤可独立进行控温，以达到更高的刻蚀均匀度和刻蚀选择比。

PrimoAD-RIE-cr配备了拥有自主知识产权涂层技术的抗腐蚀反应腔，可应对电介质材料、金属及金属氧化物材料复杂结构的刻蚀要求。

2021年，中微公司推出了新一代8英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备PrimoAD-RIE200™。

基于已被业界广泛认可的12英寸CCP刻蚀设备的成熟工艺与特性，PrimoAD-RIE200™在技术创新和生产效率方面都有了进一步提升，能够满足不同客户8英寸晶圆的加工需求。

为了提高生产效率，PrimoAD-RIE200™刻蚀设备可灵活配置多达三个双反应台反应腔（即六个反应台）。

此外，PrimoAD-RIE200™提供了可升级至12英寸刻蚀设备系统的灵活解决方案，以满足客户生产线未来可能扩产的需求。

产品特点 双反应台腔体设计具有更高的产出效率 双低频功率切换系统，用于制程分步骤优化 脉冲射频系统选项 多区气体分配调节系统 静电吸盘双区冷却装置 低金属污染工艺组件选项 每一步骤可独立进行控温的四区动态静电吸盘（PrimoAD-RIE-e） 拥有自主知识产权涂层技术的抗腐蚀反应腔（PrimoAD-RIE-cr） 一体整合的除胶能力及表面电荷减除能力（PrimoiDEA®系统） 竞争优势 双低频率分步骤切换系统，以适用于更广的制程范围（特别是Trench/ViaAll-in-one制程） 卓越的工艺可调性和稳定性，以满足先进工艺标准 高生产效率，低生产成本（CoO） 扩展机型PrimoAD-RIE-e,PrimoAD-RIE-cr和PrimoiDEA®，可应用于不同特殊制程 关于中微 产品技术 投资者关系 新闻活动 招贤纳士 产品支持 ©2019中微半导体设备（上海）股份有限公司沪ICP备05053603号-1沪公网安备31011502002759号