濺鍍靶材公司

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濺鍍靶材-Sputtering targets - 產品介紹- 三達光學材料有限公司所謂的靶材(Target)，是半導體和光電業常用的一種濺射鍍膜材料。

濺射鍍膜系統是在高真空環境中充入工作氣體(一般為氬氣)，藉由兩個相對應的金屬板(陽極板和陰極板)， ... | 薄膜濺鍍靶材 - 光洋應用材料科技股份有限公司光洋的靶材提供了良好的薄膜特性與濺鍍效率，有助於碟片品質的掌控。

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满足太阳能电池、显示屏、触摸屏、记录媒体和半导体等各种领域的需求。

tw磁控濺鍍 - 矽碁科技股份有限公司濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。

在這種技術中，大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材，並將基板以適當的 ... | 圖片全部顯示