乾蝕刻技術

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[PDF] 乾蝕刻技術乾蝕刻技術. Dry etching technique ... National Taiwan Normal University. Tel: 02-23583221 ext. 14 ... 蝕刻. 氮化矽. 氮化矽. 二氧化矽蝕刻幕罩. 光阻圖案. | 圖片全部顯示蝕刻 - 解釋頁蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)與乾蝕刻(dry etching)兩類。

濕蝕刻是將晶片浸沒於適當的化學溶液中，或將化學溶淬噴灑至晶片上，經由溶液與被蝕刻物間的化學 ... | FLEX系列產品介電層蝕刻是用來雕刻半導體元件中絕緣材料的圖案，以在元件的導電部位之間 ... 這些新材料和整合技術需要蝕刻多層薄膜堆疊的能力，而且往往薄膜之間的選擇性極大。

乾 tw蝕刻這些變化可能是因為元件尺寸愈來愈小；所用材料的變更(例如高介電薄膜)；元件架構多樣化(例如FinFETs 和三維NAND 電晶體)；以及新的封裝方式(例如矽穿孔TSV 技術)。

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